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1. WO2012005983 - CONTRÔLE PRÉCIS DE LA TEMPÉRATURE POUR DES APPLICATIONS DE TEOS PAR UN FLUIDE DE TRANSFERT DE CHALEUR

Numéro de publication WO/2012/005983
Date de publication 12.01.2012
N° de la demande internationale PCT/US2011/041826
Date du dépôt international 24.06.2011
CIB
H01L 21/316 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du groupe IV de la classification périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
30Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes H01L21/20-H01L21/26162
31pour former des couches isolantes en surface, p.ex. pour masquer ou en utilisant des techniques photolithographiques; Post-traitement de ces couches; Emploi de matériaux spécifiés pour ces couches
314Couches inorganiques
316composées d'oxydes, ou d'oxydes vitreux, ou de verres à base d'oxyde
H01L 21/205 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du groupe IV de la classification périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
20Dépôt de matériaux semi-conducteurs sur un substrat, p.ex. croissance épitaxiale
205en utilisant la réduction ou la décomposition d'un composé gazeux donnant un condensat solide, c. à d. un dépôt chimique
C23C 16/448 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
44caractérisé par le procédé de revêtement
448caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p.ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs
CPC
B01F 15/065
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING, DISPERSING
15Accessories for mixers ; ; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
06Heating or cooling systems
065using heating or cooling elements at the outside of the receptacle, e.g. heated jackets, burners, spraying devices
B01F 2015/061
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING, DISPERSING
15Accessories for mixers ; ; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
06Heating or cooling systems
061Cooling
B01F 5/0077
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING, DISPERSING
5Flow mixers
0077Mixing heads, i.e. compact mixing units or modules, using mixing valves for feeding and mixing at least two components
B01F 5/0688
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING, DISPERSING
5Flow mixers
06Mixers in which the components are pressed together through slits, orifices, or screens; ; Static mixers; Mixers of the fractal type
0682Mixers in which the components are pressed together through screens, plates provided with orifices, foam-like inserts, or through a bed of loose bodies, e.g. beads
0687characterized by the elements through which the components are pressed together
0688the components being pressed through orifices in elements, e.g. flat plates or cylinders, which obstruct the whole diameter of the tube
C23C 16/45512
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
44characterised by the method of coating
455characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
45512Premixing before introduction in the reaction chamber
Déposants
  • APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054, US (AllExceptUS)
  • LEE, Dongsuh [KR/US]; US (UsOnly)
  • WANG, Weijie [CN/US]; US (UsOnly)
  • STERLING, William N. [US/US]; US (UsOnly)
  • KIM, Sam H. [US/US]; US (UsOnly)
  • CHOI, Soo Young [KR/US]; US (UsOnly)
  • PARK, Beom Soo [KR/US]; US (UsOnly)
  • KIM, Beom Soo [KR/US]; US (UsOnly)
  • WANG, Qunhua [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs
  • LEE, Dongsuh; US
  • WANG, Weijie; US
  • STERLING, William N.; US
  • KIM, Sam H.; US
  • CHOI, Soo Young; US
  • PARK, Beom Soo; US
  • KIM, Beom Soo; US
  • WANG, Qunhua; US
Mandataires
  • PATTERSON, B. Todd; Patterson & Sheridan, L.L.P. 3040 Post Oak Blvd., Suite 1500 Houston, Texas 77056-6582, US
Données relatives à la priorité
12/831,73107.07.2010US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) PRECISE TEMPERATURE CONTROL FOR TEOS APPLICATION BY HEAT TRANSFER FLUID
(FR) CONTRÔLE PRÉCIS DE LA TEMPÉRATURE POUR DES APPLICATIONS DE TEOS PAR UN FLUIDE DE TRANSFERT DE CHALEUR
Abrégé
(EN)
Embodiments of the invention generally provide a mixing block for mixing precursors and/or cleaning agent which has the advantage of maintaining the temperature and improving the mixing effect of the precursors, cleaning agent or the mixture thereof to eliminate the substrate-to-substrate variation, thereby providing improved process uniformity.
(FR)
Des modes de réalisation de cette invention concernent de manière générale un bloc de mélange pour mélanger des précurseurs et/ou des agents de nettoyage, qui présente l'avantage de maintenir la température et d'améliorer l'effet de mélange des précurseurs, de l'agent de nettoyage ou de leur mélange pour éliminer la variation de substrat à substrat, en améliorant ainsi l'uniformité du procédé.
Également publié en tant que
JP2013600035
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