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Paramétrages

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1. WO2012004225 - CYCLOTRON COMPRENANT UN MOYEN DE MODIFICATION DU PROFIL DE CHAMP MAGNÉTIQUE ET PROCÉDÉ ASSOCIÉ

Numéro de publication WO/2012/004225
Date de publication 12.01.2012
N° de la demande internationale PCT/EP2011/061238
Date du dépôt international 04.07.2011
CIB
H05H 7/04 2006.01
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
HTECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
7Détails des dispositifs des types couverts par les groupes H05H9/-H05H13/111
04Systèmes à aimants; Leur excitation
H05H 13/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
HTECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
13Accélérateurs à résonance magnétique; Cyclotrons
CPC
H05H 13/00
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
13Magnetic resonance accelerators; Cyclotrons
H05H 13/005
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
13Magnetic resonance accelerators; Cyclotrons
005Cyclotrons
H05H 7/04
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
7Details of devices of the types covered by groups H05H9/00, H05H11/00, H05H13/00
04Magnet systems ; , e.g. undulators, wigglers
Déposants
  • Ion Beam Applications S.A. [BE/BE]; Chemin du Cyclotron 3 B-1348 Louvain-la-neuve, BE (AllExceptUS)
  • KLEEVEN, Willem [NL/BE]; BE (UsOnly)
Inventeurs
  • KLEEVEN, Willem; BE
Mandataires
  • PRONOVEM - OFFICE VAN MALDEREN; Ave Josse Goffin 158 B-1082 Brussels, BE
Données relatives à la priorité
BE20100041509.07.2010BE
Langue de publication français (FR)
Langue de dépôt français (FR)
États désignés
Titre
(EN) CYCLOTRON COMPRISING A MEANS FOR MODIFYING THE MAGNETIC FIELD PROFILE AND ASSOCIATED METHOD
(FR) CYCLOTRON COMPRENANT UN MOYEN DE MODIFICATION DU PROFIL DE CHAMP MAGNÉTIQUE ET PROCÉDÉ ASSOCIÉ
Abrégé
(EN)
The present invention relates to a cyclotron able to produce a first beam of accelerated charged particles defined by a first "charge to mass" ratio (q/m) or a second beam of accelerated charged particles defined by a second "charge to mass" ratio (q/m) lower than said first "charge to mass" ratio (q/m), said cyclotron comprising: an electromagnet comprising two poles, preferably an upper pole and a lower pole, placed symmetrically with respect to a median plane perpendicular to the central axis of the cyclotron, which poles are separated by a gap provided for the flow of charged particles, each of said poles comprising several sectors placed so as to have in alternation narrow-gap zones called "hills" and wide-gap zones called "valleys"; a main inductor coil used to create an essentially constant main inductive field in the gap between said poles; and means for modifying the magnetic field profile according to the "charge to mass" ratio of the particles to be accelerated, comprising a ferromagnetic part present in one of said valleys and extending radially from a region near the centre towards the periphery of the cyclotron, said ferromagnetic part forming a magnetic circuit with the bottom of said valley, so as to create an additional magnetic field strong enough to accelerate particles of said first beam having said first charge-to-mass ratio (q/m), characterized in that: a secondary inductor coil is placed around said ferromagnetic part so that it can induce a magnetic field s' opposing the magnetic field induced in said ferromagnetic part by said main induction coil and reduce the contribution of the additional magnetic field provided by said ferromagnetic part, so as to accelerate particles of said second beam having said second charge-to-mass ratio (q/m)'.
(FR)
La présente invention se rapporte à un cyclotron apte à produire un premier faisceau de particules chargées accélérées définies par un premier rapport « charge sur masse » (q/m) ou un deuxième faisceau de particules chargées accélérées définies par un deuxième rapport « charge sur masse » (q/m) ' inférieur audit premier rapport « charge sur masse » (q/m), ledit cyclotron comprenant : un électroaimant comprenant deux pôles, de préférence un pôle supérieur et un pôle inférieur, disposés de manière symétrique par rapport à un plan médian perpendiculaire à l'axe central du cyclotron et séparés par un entrefer prévu pour la circulation des particules chargées, chacun desdits pôles comprenant plusieurs secteurs disposés de manière à avoir une alternance de zones à entrefer étroit appelées « collines » et de zones à entrefer large appelées « vallées »; une bobine d' induction principale pour créer un champ d' induction principal essentiellement constant dans l'entrefer entre lesdits pôles et un moyen de modification du profil de champ magnétique selon le rapport « charge sur masse » des particules à accélérer comprenant une pièce ferromagnétique présente dans une desdites vallées et s' étendant radialement d'une région proche du centre vers la périphérie du cyclotron, ladite pièce ferromagnétique formant un circuit magnétique avec le fond de ladite vallée, de façon à créer un champ magnétique additionnel suffisamment important pour l'accélération de particules dudit premier faisceau ayant ledit premier rapport charge sur masse (q/m); caractérisé par : une bobine d' induction secondaire disposée autour de ladite pièce ferromagnétique de façon à pouvoir induire un champ magnétique s' opposant au champ magnétique induit dans ladite pièce ferromagnétique par ladite bobine d' induction principale et diminuer la contribution de champ magnétique additionnel fournie par ladite pièce ferromagnétique pour l'accélération de particules dudit deuxième faisceau ayant ledit deuxième rapport charge sur masse (q/m) '.
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