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1. (WO2011163330) NOUVEAUX COMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES UTILISÉS COMME INHIBITEURS DE ERK
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/163330    N° de la demande internationale :    PCT/US2011/041396
Date de publication : 29.12.2011 Date de dépôt international : 22.06.2011
CIB :
A01N 43/56 (2006.01), C07D 231/56 (2006.01), C07D 209/48 (2006.01), C07D 235/04 (2006.01)
Déposants : MERCK SHARP & DOHME CORP. [US/US]; 126 East Lincoln Avenue Rahway, NJ 07065-0907 (US) (Tous Sauf US).
SCHERING CORPORATION [US/US]; 2000 Galloping Hill Road Kenilworth, NJ 07033 (US) (Tous Sauf US).
DENG, Yongqi [US/US]; (US) (US Seulement).
ZHU, Liang [US/US]; (US) (US Seulement).
SHIPPS, Gerald, W., Jr. [US/US]; (US) (US Seulement).
LO, Sie-Mun [US/US]; (US) (US Seulement).
SUN, Binyuan [US/US]; (US) (US Seulement).
HUANG, Xiaohua [CN/US]; (US) (US Seulement).
BEINSTOCK, Corey [US/US]; (US) (US Seulement).
COOPER, Alan, B. [US/US]; (US) (US Seulement).
GAO, Xiaolei [CN/US]; (US) (US Seulement).
YAO, Xin [US/US]; (US) (US Seulement).
ZHU, Hugh, Y. [CN/US]; (US) (US Seulement).
KELLY, Joseph, M. [IE/US]; (US) (US Seulement).
BOGA, Sobhana Babu [IN/US]; (US) (US Seulement).
ALHASSAN, Abdul-Basit [GH/US]; (US) (US Seulement).
TAGAT, Jayaram, R. [US/US]; (US) (US Seulement).
MANSOOR, Umar Faruk [US/US]; (US) (US Seulement).
WILSON, Kevin [GB/US]; (US) (US Seulement).
O'BOYLE, Brendan, M. [US/US]; (US) (US Seulement).
DANIELS, Matthew [US/US]; (US) (US Seulement).
SCHELL, Adam [US/US]; (US) (US Seulement).
SILIPHAIVANH, Phieng [US/US]; (US) (US Seulement).
FISCHER, Christian [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : DENG, Yongqi; (US).
ZHU, Liang; (US).
SHIPPS, Gerald, W., Jr.; (US).
LO, Sie-Mun; (US).
SUN, Binyuan; (US).
HUANG, Xiaohua; (US).
BEINSTOCK, Corey; (US).
COOPER, Alan, B.; (US).
GAO, Xiaolei; (US).
YAO, Xin; (US).
ZHU, Hugh, Y.; (US).
KELLY, Joseph, M.; (US).
BOGA, Sobhana Babu; (US).
ALHASSAN, Abdul-Basit; (US).
TAGAT, Jayaram, R.; (US).
MANSOOR, Umar Faruk; (US).
WILSON, Kevin; (US).
O'BOYLE, Brendan, M.; (US).
DANIELS, Matthew; (US).
SCHELL, Adam; (US).
SILIPHAIVANH, Phieng; (US).
FISCHER, Christian; (US)
Représentant
commun :
MERCK SHARP & DOHME CORP.; 126 East Lincoln Avenue Rahway, NJ 07065-0907 (US)
Données relatives à la priorité :
61/358,206 24.06.2010 US
Titre (EN) NOVEL HETEROCYCLIC COMPOUNDS AS ERK INHIBITORS
(FR) NOUVEAUX COMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES UTILISÉS COMME INHIBITEURS DE ERK
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a compound of the Formula I:(Formular I should be inserted here) or a pharmaceutically acceptable salt, solvate or ester thereof, wherein R, R1, R2 and R3 are as defined herein. The compounds are ERK inhibitors. Also disclosed are pharmaceutical compositions comprising the above compounds and methods of treating cancer using the same.
(FR)La présente invention concerne un composé de formule I, ou un sel, un solvate ou un ester pharmaceutiquement acceptable de celui-ci, dans laquelle R, R1, R2 et R3 sont tels que définis dans l'invention. Les composés sont des inhibiteurs de ERK. L'invention concerne également des compositions pharmaceutiques comprenant les composés susmentionnés ainsi que des méthodes de traitement du cancer à l'aide desdites compositions.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)