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1. (WO2011162932) MÉCANISME DE NETTOYAGE COMPORTANT UN DÉPLACEMENT EN TANDEM SUR DES SURFACES D'ÉMETTEUR ET DE COLLECTEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/162932    N° de la demande internationale :    PCT/US2011/039104
Date de publication : 29.12.2011 Date de dépôt international : 03.06.2011
CIB :
B08B 1/00 (2006.01), B03C 3/74 (2006.01), H01T 23/00 (2006.01)
Déposants : TESSERA, INC. [US/US]; 3025 Orchard Parkway San Jose, California 95134 (US) (Tous Sauf US).
SCHWIEBERT, Matthew K. [US/US]; (US) (US Seulement).
JEWELL-LARSEN, Nels [US/US]; (US) (US Seulement).
HONER, Kenneth A. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : SCHWIEBERT, Matthew K.; (US).
JEWELL-LARSEN, Nels; (US).
HONER, Kenneth A.; (US)
Mandataire : DORIUS, Kirk; 7600B N Capital of Texas Hwy Suite 350 Austin, Texas 78731 (US)
Données relatives à la priorité :
12/820,009 21.06.2010 US
Titre (EN) CLEANING MECHANISM WITH TANDEM MOVEMENT OVER EMITTER AND COLLECTOR SURFACES
(FR) MÉCANISME DE NETTOYAGE COMPORTANT UN DÉPLACEMENT EN TANDEM SUR DES SURFACES D'ÉMETTEUR ET DE COLLECTEUR
Abrégé : front page image
(EN)An apparatus for tandem cleaning of an emitter electrode (e.g., 106, 206, 306, 308) and collector electrode (e.g., 108, 208, 320) in electrohydrodynamic fluid accelerator (e.g., 201, 301) and precipitator (e.g., 303) devices via movement of a cleaning mechanism (e.g., 200, 300) including respective cleaning surfaces (e.g., 102, 104, 202, 204, 302, 304, 322, 332) positioned to frictionally engage the emitter electrode and collector electrode. The cleaning mechanism causes the respective cleaning surfaces to travel along a longitudinal extent of the emitter electrode and, in tandem, over a major dimension of the collector electrode to remove detrimental material from respective electrode surfaces. Alternatively, the electrodes can be transited in tandem in frictional engagement with a fixed cleaning mechanism in the same or opposite directions. A conditioning material is optionally deposited on an electrode to at least partially mitigate ozone, erosion, corrosion, oxidation, or dendrite formation on the electrodes. The conditioning material can include an ozone reducer.
(FR)L'invention porte sur un appareil pour le nettoyage en tandem d'une électrode d'émetteur (par exemple 106, 206, 306, 308) et d'une électrode de collecteur (par exemple 108, 208, 320) dans des dispositifs d'accélérateur de fluide électrohydrodynamique (par exemple 201, 301) et de précipitateur (par exemple 303) par le biais du déplacement d'un mécanisme de nettoyage (par exemple 200, 300) qui comporte des surfaces de nettoyage respectives (par exemple 102, 104, 202, 204, 302, 304, 322, 332) positionnées pour venir en contact à frottement avec l'électrode d'émetteur et l'électrode de collecteur. Le mécanisme de nettoyage amène les surfaces de nettoyage respectives à se déplacer le long de l'étendue longitudinale de l'électrode d'émetteur et, en tandem, sur la grande dimension de l'électrode de collecteur pour retirer la matière néfaste à partir des surfaces d'électrode respectives. En variante, les électrodes peuvent être mises en mouvement en tandem en contact à frottement avec un mécanisme de nettoyage fixe, dans des directions identiques ou opposées. Une matière de conditionnement peut être facultativement déposée sur une électrode pour atténuer au moins partiellement l'ozone, l'érosion, la corrosion, l'oxydation ou la formation de dendrites sur les électrodes. La matière de conditionnement peut contenir un réducteur d'ozone.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)