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1. (WO2011162408) PROCÉDÉ DE FORMATION DE DESSINS, COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS OU SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES ET FILM RÉSISTANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2011/162408 N° de la demande internationale : PCT/JP2011/064850
Date de publication : 29.12.2011 Date de dépôt international : 22.06.2011
CIB :
G03F 7/32 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : KATAOKA, Shohei; null (UsOnly)
IWATO, Kaoru; null (UsOnly)
FUJII, Kana; null (UsOnly)
KAMIMURA, Sou; null (UsOnly)
ENOMOTO, Yuichiro; null (UsOnly)
KATO, Keita; null (UsOnly)
YAMAGUCHI, Shuhei; null (UsOnly)
FUJIFILM Corporation[JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1060031, JP (AllExceptUS)
Inventeurs : KATAOKA, Shohei; null
IWATO, Kaoru; null
FUJII, Kana; null
KAMIMURA, Sou; null
ENOMOTO, Yuichiro; null
KATO, Keita; null
YAMAGUCHI, Shuhei; null
Mandataire : TAKAMATSU, Takeshi; Koh-Ei Patent Firm Toranomon East Bldg. 9F 7-13, Nishi-shimbashi 1-chome Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
Données relatives à la priorité :
2010-14561825.06.2010JP
2010-28676622.12.2010JP
Titre (EN) PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE DESSINS, COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS OU SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES ET FILM RÉSISTANT
Abrégé :
(EN) A pattern forming method, includes: (i) forming a film from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that contains (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and decomposing by an action of an acid to decrease a solubility of the compound (A) for an organic solvent; (ii) exposing the film; and (iii) performing development by using a developer containing an organic solvent.
(FR) L'invention concerne un procédé de formation de dessins comprenant : (i) la formation d'un film à partir d'une composition de résine sensible aux rayonnements ou sensible aux rayons actiniques qui contient (A) un composant susceptible de générer un acide lors de l'irradiation par un rayonnement ou un rayon actinique et de se décomposer par une action d'un acide dans le but de diminuer la solubilité du composant (A) pour un solvant organique ; (ii) l'exposition du film ; et (iii) la réalisation du développement par l'utilisation d'un développeur contenant un solvant organique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)