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1. (WO2011162272) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'APPAREIL CHIMIQUE

Pub. No.:    WO/2011/162272    International Application No.:    PCT/JP2011/064204
Publication Date: Fri Dec 30 00:59:59 CET 2011 International Filing Date: Thu Jun 23 01:59:59 CEST 2011
IPC: B08B 3/08
Applicants: MITSUI CHEMICALS, INC.
三井化学株式会社
ISHIDA, Tsutomu
石田 努
SATO, Arata
佐藤 新
WATANABE, Shigeo
渡辺 重男
ARII, Teruo
有井 輝夫
Inventors: ISHIDA, Tsutomu
石田 努
SATO, Arata
佐藤 新
WATANABE, Shigeo
渡辺 重男
ARII, Teruo
有井 輝夫
Title: PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'APPAREIL CHIMIQUE
Abstract:
La présente invention se rapporte à un procédé de nettoyage d'appareil chimique qui peut retirer des quantités infimes de composants métalliques qui restent dans le système dans une mesure telle que l'appareil chimique peut être détourné vers d'autres usages et conditions de réaction. Le procédé de nettoyage d'appareil chimique se caractérise en ce qu'il comprend un processus consistant à retirer des composants métalliques par l'introduction d'un liquide contenant un composé amide dans l'appareil chimique auquel adhèrent lesdits composants métalliques.