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1. (WO2011162265) COMPOSITION POUR LE POLISSAGE D'UN SUBSTRAT À BASE DE CARBURE DE SILICIUM ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE D'UN SUBSTRAT À BASE DE CARBURE DE SILICIUM

Pub. No.:    WO/2011/162265    International Application No.:    PCT/JP2011/064179
Publication Date: Fri Dec 30 00:59:59 CET 2011 International Filing Date: Wed Jun 22 01:59:59 CEST 2011
IPC: H01L 21/304
B24B 37/04
Applicants: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
日産化学工業株式会社
SEKIGUCHI, Kazutoshi
関口 和敏
NISHIMURA, Tooru
西村 透
Inventors: SEKIGUCHI, Kazutoshi
関口 和敏
NISHIMURA, Tooru
西村 透
Title: COMPOSITION POUR LE POLISSAGE D'UN SUBSTRAT À BASE DE CARBURE DE SILICIUM ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE D'UN SUBSTRAT À BASE DE CARBURE DE SILICIUM
Abstract:
Cette invention concerne une composition pour le polissage d'un substrat à base de carbure de silicium, destinée au polissage de la surface de substrats à base de carbure de silicium. Ladite composition comprend des particules de silice colloïdale dont la densité absolue va de 2,10 à 2,30, ainsi que de l'eau. La composition présente en outre une concentration d'ions métalliques alcalins libres allant de 1 à 150 ppm.