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1. (WO2011162254) PROCÉDÉ D'ÉLIMINATION D'IONS CUIVRE D'UNE SOLUTION DE CHLORURE DE NICKEL CONTENANT DU CUIVRE, ET PROCESSUS DE PRODUCTION DE NICKEL ÉLECTROLYTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/162254    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/064156
Date de publication : 29.12.2011 Date de dépôt international : 21.06.2011
CIB :
C22B 23/00 (2006.01), C25C 1/08 (2006.01), C25C 7/06 (2006.01), C22B 3/04 (2006.01), C22B 3/44 (2006.01), C22B 15/00 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO METAL MINING CO., LTD. [JP/JP]; 11-3, Shimbashi 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1058716 (JP) (Tous Sauf US).
KAKIMOTO, Minoru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAKAISHI, Kazuyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUMOTO, Nobuhiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KAKIMOTO, Minoru; (JP).
TAKAISHI, Kazuyuki; (JP).
MATSUMOTO, Nobuhiro; (JP)
Mandataire : KOIKE, Akira; 32F, St. Luke's Tower, 8-1, Akashi-cho, Chuo-ku, Tokyo 1040044 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-140506 21.06.2010 JP
2010-284956 21.12.2010 JP
Titre (EN) METHOD FOR REMOVAL OF COPPER IONS FROM COPPER-CONTAINING NICKEL CHLORIDE SOLUTION, AND PROCESS FOR PRODUCTION OF ELECTROLYTIC NICKEL
(FR) PROCÉDÉ D'ÉLIMINATION D'IONS CUIVRE D'UNE SOLUTION DE CHLORURE DE NICKEL CONTENANT DU CUIVRE, ET PROCESSUS DE PRODUCTION DE NICKEL ÉLECTROLYTIQUE
(JA) 含銅塩化ニッケル溶液の銅イオン除去方法並びに電気ニッケルの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are: a method for removing copper ions from a copper-containing nickel chloride solution, which can remove copper contained in the copper-containing nickel chloride solution with high efficiency; and a process for producing an electrolytic nickel. Specifically disclosed is a copper ion removal method for removing copper ions from a copper-containing nickel chloride solution (11') that is produced by the chlorine exudation of a nickel sulfide (10), which comprises: a first step of adding the nickel sulfide (10) to the copper-containing nickel chloride solution (11') containing bivalent copper ions to reduce at least the bivalent copper ions into monovalent nickel ions; and a second step of adding a nickel mat (12) and a chlorine exudation residue (13) to a slurry produced through the first step to immobilize the monovalent copper ions contained in the slurry in the form of sulfides.
(FR)La présente invention concerne un procédé d'élimination d'ions cuivre d'une solution de chlorure de nickel contenant du cuivre pouvant éliminer le cuivre contenu dans la solution de chlorure de nickel contenant du cuivre avec une grande efficacité, et un processus de production d'un nickel électrolytique. Elle concerne en particulier un procédé d'élimination d'ions cuivre destiné à éliminer des ions cuivre d'une solution de chlorure de nickel contenant du cuivre (11') produite par l'exsudation de chlore d'un sulfure de nickel (10) comprenant : une première étape consistant à ajouter le sulfure de nickel (10) à la solution de chlorure de nickel contenant du cuivre (11') contenant des ions cuivre bivalents pour réduire au moins les ions cuivre bivalents en ions nickel monovalents ; et une seconde étape consistant à ajouter un mat de nickel (12) et un résidu d'exsudation de chlore (13) à une bouillie produite par la première étape pour immobiliser les ions cuivre monovalents contenus dans la bouillie sous forme de sulfures.
(JA) 含銅塩化ニッケル溶液に含まれる銅を効率的に除去することができる含銅塩化ニッケル溶液の銅イオン除去方法並びに電気ニッケルの製造方法を提供する。本発明は、ニッケル硫化物(10)を塩素浸出して得られる含銅塩化ニッケル溶液(11')から銅イオンを除去する銅イオン除去方法において、2価銅イオンを含有する含銅塩化ニッケル溶液(11')にニッケル硫化物(10)を添加し、少なくとも、2価銅イオンを1価銅イオンに還元する第1の工程と、第1の工程を経て得られたスラリーに、ニッケルマット(12)及び塩素浸出残渣(13)を添加し、スラリーに含まれる1価銅イオンを硫化物として固定化する第2の工程とを有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)