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1. (WO2011162218) STRATIFIÉ DE COUCHE D'ISOLATION CÉRAMIQUE ET DE COUCHE MÉTALLIQUE ET PROCÉDÉ POUR LA PRODUCTION D'UN STRATIFIÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/162218    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/064083
Date de publication : 29.12.2011 Date de dépôt international : 20.06.2011
CIB :
B32B 15/04 (2006.01), B32B 18/00 (2006.01), H01G 4/33 (2006.01)
Déposants : MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD. [JP/JP]; 11-1, Osaki 1-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1418584 (JP) (Tous Sauf US).
ABE, Naohiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ABE, Naohiko; (JP)
Mandataire : YOSHIMURA, Katsuhiro; c/o Yoshimura International Patent Office, Omiya F Bldg., 5-4, Sakuragicho 2-chome, Omiya-ku, Saitama-shi, Saitama 3300854 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-140830 21.06.2010 JP
Titre (EN) LAMINATE OF CERAMIC INSULATION LAYER AND METAL LAYER, AND METHOD FOR PRODUCING LAMINATE
(FR) STRATIFIÉ DE COUCHE D'ISOLATION CÉRAMIQUE ET DE COUCHE MÉTALLIQUE ET PROCÉDÉ POUR LA PRODUCTION D'UN STRATIFIÉ
(JA) セラミック系絶縁層と金属層との積層体及び当該積層体の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided are a laminate of a ceramic insulation layer and a metal layer and also a method for producing this laminate, with which it is possible to appropriately select structural materials for the metal layer, which serves as a base material, regardless of the method used to form the ceramic insulation layer, with which deterioration of the base material and reduction in insulating performance of the insulation layer during the ceramic insulation layer production process can be prevented, and with which an improved production yield can be achieved. A laminate (100) of a ceramic insulation layer (30) and a metal layer (10), wherein a protective layer (20) is provided on the surface of the side of the metal layer (10) on which the ceramic insulation layer (30) is formed, and the protective layer (20) is formed from a silicon compound having a layer thickness of 5 nm to 100 nm.
(FR)L'invention porte sur un stratifié d'une couche d'isolation céramique et d'une couche métallique, et également sur un procédé pour produire ce stratifié, avec lesquels il est possible de sélectionner de façon appropriée des matériaux structurels pour la couche métallique, qui sert de matériau de base, quel que soit le procédé utilisé pour former la couche d'isolation céramique, avec lesquels une détérioration du matériau de base et une réduction des performances d'isolation de la couche d'isolation pendant le processus de production de la couche d'isolation céramique peuvent être empêchées, et avec lesquels un rendement de production amélioré peut être obtenu. Un stratifié (100) d'une couche d'isolation céramique (30) et d'une couche métallique (10), une couche protectrice (20) étant disposée sur la surface du côté de la couche métallique (10) sur laquelle est formée la couche d'isolation céramique (30), et la couche protectrice (20) étant formée à partir d'un composé de silicium ayant une épaisseur de couche de 5 nm à 100 nm.
(JA) セラミック系絶縁層の形成方法によらず、基材として用いる金属層の構成材料を適宜選択可能であり、セラミック系絶縁層の製造プロセスにおいて当該基材の劣化や当該絶縁層の絶縁性の低下を防止して、生産歩留の向上を図ることのできるセラミック系絶縁層と金属層との積層体及び当該積層体の製造方法を提供することを目的とする。 上記目的を達成するため、セラミック系絶縁層30と金属層10との積層体100において、当該金属層10には、セラミック系絶縁層30が設けられる側の面に、層厚が5nm~100nmのケイ素化合物から成る保護層20を設ける構成とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)