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1. (WO2011162036) DISPOSITIF DE PULVÉRISATION CATHODIQUE, PROCÉDÉ DE DÉPÔT ET DISPOSITIF DE COMMANDE

Pub. No.:    WO/2011/162036    International Application No.:    PCT/JP2011/060924
Publication Date: Fri Dec 30 00:59:59 CET 2011 International Filing Date: Fri May 13 01:59:59 CEST 2011
IPC: C23C 14/34
G11B 5/39
Applicants: CANON ANELVA CORPORATION
キヤノンアネルバ株式会社
TSUNEKAWA Koji
恒川 孝二
SUENAGA Masahiro
末永 真寛
KONNO Takeo
金野 武郎
Inventors: TSUNEKAWA Koji
恒川 孝二
SUENAGA Masahiro
末永 真寛
KONNO Takeo
金野 武郎
Title: DISPOSITIF DE PULVÉRISATION CATHODIQUE, PROCÉDÉ DE DÉPÔT ET DISPOSITIF DE COMMANDE
Abstract:
L'invention concerne un dispositif de pulvérisation cathodique qui, en plus de former un film stratifié d'épaisseur uniforme sur une surface d'un substrat plat, est capable de former uniformément, même sur un substrat constitué d'une structure irrégulière, une couche qui se fixe aux côtés ou aux surfaces latérales de la structure irrégulière. Dans un mode de réalisation de l'invention, le dispositif de pulvérisation cathodique est équipé d'un porte-substrat (22) qui maintient en rotation un substrat (21), une unité cathodique (40) disposée diagonalement à l'opposé du porte-substrat (22), un capteur de position (23) qui détecte la position en rotation du substrat maintenu sur le porte-substrat, et une unité de commande de rotation du porte-substrat (51) pour ajuster l'angle de rotation du substrat en fonction de la position de rotation détectée. L'unité de commande de rotation du porte-substrat (51) contrôle la vitesse de rotation de telle sorte que la vitesse de rotation du substrat quand l'unité cathodique (40) est positionnée face à une première direction, qui est la direction longue de la face de traitement de la structure irrégulière, est plus lente que la vitesse de rotation du substrat quand l'unité cathodique (40) est positionnée face à une deuxième direction qui est perpendiculaire à la première direction, dans la direction de rotation du substrat.