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1. (WO2011162023) SYSTÈME DE TRAITEMENT DE GAZ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/162023    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/060255
Date de publication : 29.12.2011 Date de dépôt international : 27.04.2011
CIB :
F23G 7/06 (2006.01), B01D 53/46 (2006.01), B01D 53/68 (2006.01), F23J 15/08 (2006.01)
Déposants : Edwards Japan Limited [JP/JP]; 1078-1, Yoshihashi, Yachiyo-shi, Chiba 2768523 (JP) (Tous Sauf US).
NAKAYAMA Izumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAKAHASHI Katsunori [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAKAYAMA Izumi; (JP).
TAKAHASHI Katsunori; (JP)
Mandataire : WADA Shigenori; Tohko Building 4F, 15-16, Uchikanda 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010047 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-140384 21.06.2010 JP
Titre (EN) GAS PROCESSING SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE TRAITEMENT DE GAZ
(JA) ガス処理システム
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a gas processing system suitable for achieving cost reduction, size reduction and improvement of maintenability of the entire gas processing system including a pipe. A gas processing system (1) is provided with: a water-cooled combustion-type harm removing device (2) which, with silane that is a semiconductor material gas and a gaseous fluoride such as NF3, CF4, C2F6, SF6, CHF3, or CF6 that is used as a cleaning gas when the interiors of closed chambers (C1, C2 … Cn) of a plasma CVD device and the like are cleaned by plasma as gases to be processed, performs combustion decomposition and washing dust collection on the gases to be processed; an electric dust collection device (3) which performs electric dust collection on process gas after the combustion decomposition and washing dust collection; and a pipe (4) for sending the process gas after the electric dust collection to a plant scrubber facility (5).
(FR)L'invention concerne un système de traitement de gaz permettant de réaliser une réduction des coûts, une réduction de la taille et une amélioration de la facilité de maintenance de tout le système de traitement de gaz comprenant un tube. Un système de traitement de gaz (1) comprend : un dispositif d'élimination d'impuretés à combustion refroidi à l'eau (2) qui, avec du silane comme gaz semiconducteur et un fluorure gazeux tel que NF3, CF4, C2F6, SF6, CHF3, ou CF6 qui est utilisé comme gaz de nettoyage lorsque l'intérieur de chambres fermées (C1, C2 … Cn) d'un dispositif DCPV à plasma ou similaire sont nettoyées par un plasma et produisent des gaz à traiter, réalise la décomposition par combustion et la collecte de la poussière de nettoyage des gaz à traiter; un dispositif de collecte de poussière électrique (3) qui réalise la collecte de poussière électrique dans le gaz de procédé après la décomposition par combustion et la collecte de la poussière de nettoyage; et un tube (4) permettant d'envoyer le gaz de procédé après la collecte de poussière électrique vers une installation de nettoyage (5).
(JA)【課題】配管を含むガス処理システム全体の低価格化、コンパクト化、メンテナンス性の向上を図るのに好適なガス処理システムを提供する。 【解決手段】ガス処理システム1は、半導体材料ガスであるシランや、プラズマCVD装置等の密閉チャンバC1、C2…Cn内を例えばプラズマでクリーニングする際のクリーニングガスとして使用するNF、CF、C、SF、CHF、CF等のガス状フッ化物を被処理ガスとし、これらの被処理ガスに対して燃焼分解及び洗浄集塵を行う水冷燃焼式除害装置2と、燃焼分解及び洗浄集塵後の処理ガスに対して電気集塵を行う電気集塵装置3と、電気集塵後の処理ガスを工場スクラバー設備5へ送る配管4と、を備えるものとする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)