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1. (WO2011160262) PHÉNYLGLYOXYLATE DE FAIBLE VOLATILITÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/160262    N° de la demande internationale :    PCT/CN2010/000949
Date de publication : 29.12.2011 Date de dépôt international : 25.06.2010
CIB :
C07C 69/76 (2006.01), G03F 7/031 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01)
Déposants : INSIGHT HIGH TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 10F, Horse-Better Building No. 1A, Nanyitiao, Zhongguancun Haidian District, Beijing 100190 (CN) (Tous Sauf US).
ZHAO, Wenchao [CN/CN]; (CN) (US Seulement).
WANG, Yonglin [CN/CN]; (CN) (US Seulement).
CHEN, Dongyang [CN/CN]; (CN) (US Seulement).
LI, Jiaqi [CN/CN]; (CN) (US Seulement).
ZHANG, Jue [CN/CN]; (CN) (US Seulement).
YAO, Lixiu [CN/CN]; (CN) (US Seulement).
SHAO, Junfeng [CN/CN]; (CN) (US Seulement)
Inventeurs : ZHAO, Wenchao; (CN).
WANG, Yonglin; (CN).
CHEN, Dongyang; (CN).
LI, Jiaqi; (CN).
ZHANG, Jue; (CN).
YAO, Lixiu; (CN).
SHAO, Junfeng; (CN)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) LOW VOLATILE PHENYLGLYOXYLATE
(FR) PHÉNYLGLYOXYLATE DE FAIBLE VOLATILITÉ
(ZH) 低挥发性苯甲酰基甲酸酯
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are compounds of structural formula (I), wherein n is 2-10, R1 is H, C1-C4 alkyl, phenyl or OR2, wherein R2 is C1-C4 alkyl or hydroxyethyl. The volatilities thereof are very low. The compounds can be used as photoinitiators alone or in combination with other photoinitiators in the photopolymerization of compounds with unsaturated carbon-carbon double bond.
(FR)L'invention divulgue des composés présentant la formule structurelle (I), dans laquelle n vaut 2-10, R1 représente H, C1-C4-alkyle, phényle ou OR2, R2 représentant C1-C4-alkyle ou hydroxyéthyle. La volatilité de ces composés est très basse. Les composés peuvent être utilisés en tant que photo-initiateurs, seuls ou en combinaison avec d'autres photo-initiateurs dans la photopolymérisation de composés possédant une double liaison insaturée carbone-carbone.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)