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1. (WO2011159922) FILMS DE GRAPHÈNE ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/159922    N° de la demande internationale :    PCT/US2011/040740
Date de publication : 22.12.2011 Date de dépôt international : 16.06.2011
CIB :
C01B 31/02 (2006.01), C25D 13/02 (2006.01)
Déposants : THE RESEARCH FOUNDATION OF STATE UNIVERSITY OF NEW YORK [US/US]; Stor Intellectual Property Division UB Technology Incubator, Suite 111 Amherst, NY 14228-2567 (US) (Tous Sauf US).
BANERJEE, Sarbajit [IN/US]; (US) (US Seulement).
WHITTAKER, Luisa [PA/US]; (US) (US Seulement).
LEE, Vincent [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : BANERJEE, Sarbajit; (US).
WHITTAKER, Luisa; (US).
LEE, Vincent; (US)
Mandataire : ROMAN, Paul, J.; Hodgson Russ LLP The Guaranty Building 140 Pearl Street, Suite 100 Buffalo, NY 14202-4040 (US)
Données relatives à la priorité :
61/355,290 16.06.2010 US
Titre (EN) GRAPHENE FILMS AND METHODS OF MAKING THEREOF
(FR) FILMS DE GRAPHÈNE ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)Provided are methods for forming graphene or functionalized graphene thin films. Also provided are graphene and functionalized graphene thin films formed by the methods. For example, electrophoretic deposition methods and stamping methods are used. Defect-free thin films can be formed. Patterned films can be formed. The methods can provide conformal coatings on non-planar substrates.
(FR)L'invention concerne des procédés de formation de films minces de graphène ou de graphène fonctionnalisé. L'invention porte également sur des films minces de graphène et de graphène fonctionalisé formés par lesdits procédés. Par exemple, des procédés de dépôt électrolytique ainsi que des procédés d'estampage sont utilisés. Des films minces sans défaut peuvent être formés. Des films à motifs peuvent être formés. Les procédés peuvent permettre de produire des revêtements conformes sur des substrats non plans.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)