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1. (WO2011159723) CIBLE DE RAYONS X ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELLE-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/159723    N° de la demande internationale :    PCT/US2011/040387
Date de publication : 22.12.2011 Date de dépôt international : 14.06.2011
CIB :
H01J 35/08 (2006.01)
Déposants : VARIAN MEDICAL SYSTEMS, INC. [US/US]; 3100 Hansen Way Palo Alto, CA 94304-1038 (US) (Tous Sauf US).
LEE, David, S., K. [US/US]; (US) (US Seulement).
POSTMAN, John, E. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : LEE, David, S., K.; (US).
POSTMAN, John, E.; (US)
Mandataire : MASCHOFF, Eric, L.; Maschoff Gilmore & Israelsen 1441 W. Ute Blvd., Suite 100 Park City, UT 84098-7633 (US)
Données relatives à la priorité :
12/816,216 15.06.2010 US
Titre (EN) X-RAY TARGET AND METHOD OF MAKING THE SAME
(FR) CIBLE DE RAYONS X ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELLE-CI
Abrégé : front page image
(EN)In one example, an x-ray target comprises a target track, a substrate, and a backing. The target track includes a base material and a grain growth inhibitor to reduce or prevent microstructure grain growth in the base material.
(FR)Dans un exemple, une cible de rayons X comprend une piste de cible, un substrat, et un support. La piste de cible comprend un matériau de base et un inhibiteur de croissance de grain pour réduire ou empêcher la croissance de grain de microstructure dans le matériau de base.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)