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1. (WO2011158831) PROCÉDÉ POUR LA PRODUCTION DE COMPOSÉS DE MASSE MOLÉCULAIRE ÉLEVÉE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/158831    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/063595
Date de publication : 22.12.2011 Date de dépôt international : 14.06.2011
CIB :
C08G 61/10 (2006.01), H01L 51/42 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP) (Tous Sauf US).
Tokyo Institute of Technology [JP/JP]; 12-1, Ookayama 2-chome, Meguro-ku, Tokyo 1528550 (JP) (Tous Sauf US).
MIYAKE, Kunihito [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MICHINOBU, Tsuyoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YUAN, Yuping [CN/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MIYAKE, Kunihito; (JP).
MICHINOBU, Tsuyoshi; (JP).
YUAN, Yuping; (JP)
Mandataire : SAKAI, Hiroaki; Sakai International Patent Office, Kasumigaseki Building, 2-5, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006020 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-138122 17.06.2010 JP
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCTION OF HIGH-MOLECULAR COMPOUNDS
(FR) PROCÉDÉ POUR LA PRODUCTION DE COMPOSÉS DE MASSE MOLÉCULAIRE ÉLEVÉE
(JA) 高分子化合物の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a process by which high-molecular compounds having cyano groups can be produced in enhanced yields. The process comprises reacting a high-molecular compound having structural units represented by formula (I) with a compound represented by formula (II) or general formula (III) [wherein Ar3 is a tetravalent organic group] under microwave irradiation to form a high-molecular compound having structural units represented by formula (IV) [wherein A1 and A2 are each independently =C(CN)2 or a group represented by formula (V) [wherein Ar3 is a tetravalent organic group]].
(FR)L'invention porte sur un procédé par lequel de composés de masse moléculaire élevée ayant des groupes cyano peuvent être produits avec des rendements de production accrus. Le procédé comprend la réaction d'un composé de masse moléculaire élevée ayant des motifs de structure représentés par la formule (I) avec un composé représenté par la formule (II) ou la formule générale (III)/[dans laquelle Ar3 représente un groupe organique tétravalent] sous irradiation par des micro-ondes pour former un composé de masse moléculaire élevée ayant des motifs de structure représentés par la formule (IV)/[dans laquelle A1 et A2/représentent chacun indépendamment =C(CN)2 ou un groupe représenté par la formule (V) [dans laquelle Ar3 représente un groupe organique tétravalent]].
(JA) シアノ基を有する高分子化合物の収率を向上させる。下記式(I)で表される構造単位を有する高分子化合物と、下記式(II)で表される化合物又は下記式(III)で表される化合物とを、マイクロ波照射下で反応させて、下記式(IV)で表される構造単位を有する高分子化合物を製造する、高分子化合物の製造方法。(式(III)中、Arは、4価の有機基を表す。)(式(IV)中、A及びAは、それぞれ独立に、=C(CN)で表される基又は下記式(V)で表される基を表す。)(式(V)中、Arは、4価の有機基を表す。)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)