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1. (WO2011158223) PROCÉDÉ DE SURVEILLANCE ET DE RÉGULATION DE PROCÉDÉS DE DÉPÔT CHIMIQUE OU ÉLECTROCHIMIQUE DE COUCHES MINCES, ET DISPOSITIF POUR SA MISE EN ŒUVRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/158223    N° de la demande internationale :    PCT/IB2011/052691
Date de publication : 22.12.2011 Date de dépôt international : 20.06.2011
CIB :
G01N 21/65 (2006.01)
Déposants : NEXCIS [FR/FR]; 190, Av. Celestin Coq F-13790 Rousset (FR) (Tous Sauf US).
UNIVERSITAT DE BARCELONA [ES/ES]; Gran Via de les Corts Catalanes, 585 E-08007 Barcelona (ES) (Tous Sauf US).
FUNDACIÓ INSTITUT DE RECERCA DE L'ENERGIA DE CATALUNYA [ES/ES]; C. Jardins de les Dones de Negre, 1, 2ª planta Sant Adrià de Besòs (Barcelona) (ES) (Tous Sauf US).
BERMÚDEZ BENITO, Verónica [ES/FR]; (FR) (US Seulement).
JAIME FERRER, Jesús, Salvador [MX/FR]; (FR) (US Seulement).
SAUCEDO SILVA, Edgardo [UY/FR]; (FR) (US Seulement).
PÉREZ RODRÍGUEZ, Alejandro [ES/ES]; (ES) (US Seulement).
MORANTE LLEONART, Juan, Ramón [ES/ES]; (ES) (US Seulement).
FONTANÉ SÁNCHEZ, Javier [ES/ES]; (ES) (US Seulement).
IZQUIERDO ROCA, Víctor [ES/ES]; (ES) (US Seulement).
ÁLVAREZ GARCÍA, Jacobo [ES/ES]; (ES) (US Seulement)
Inventeurs : BERMÚDEZ BENITO, Verónica; (FR).
JAIME FERRER, Jesús, Salvador; (FR).
SAUCEDO SILVA, Edgardo; (FR).
PÉREZ RODRÍGUEZ, Alejandro; (ES).
MORANTE LLEONART, Juan, Ramón; (ES).
FONTANÉ SÁNCHEZ, Javier; (ES).
IZQUIERDO ROCA, Víctor; (ES).
ÁLVAREZ GARCÍA, Jacobo; (ES)
Mandataire : PONTI SALES, Adelaida; C. Consell de Cent, 322 E-08007 Barcelona (ES)
Données relatives à la priorité :
P201030945 18.06.2010 ES
Titre (EN) METHOD OF MONITORING AND CONTROL OF PROCESSES OF CHEMICAL OR ELECTROCHEMICAL DEPOSITION OF THIN LAYERS AND DEVICE TO CARRY IT OUT
(FR) PROCÉDÉ DE SURVEILLANCE ET DE RÉGULATION DE PROCÉDÉS DE DÉPÔT CHIMIQUE OU ÉLECTROCHIMIQUE DE COUCHES MINCES, ET DISPOSITIF POUR SA MISE EN ŒUVRE
Abrégé : front page image
(EN)Method of monitoring and control of processes of chemical or electrochemical deposition of compound thin layers based on the use of solutions and/or suspensions in liquid phase, by Raman spectroscopy measurements performed at real time conditions during the process and/or at the end of the process, comprising the following stages: a) defining spectral regions associated to the Raman active vibrational modes of the different phases characteristic of the thin layer; b) obtaining the Raman spectrum corresponding to the thin layer in the presence of the solution and/or liquid suspension; c) assessing the integral intensities of the spectrum obtained in each one of said spectral regions; d) comparing the integral intensities with the values corresponding to a previous calibration, with the purpose of determining if the time evolution of the parameters of the layer during its growth and/or its value at the end of the process correspond to the predefined characteristic parameters for the process.
(FR)L'invention porte sur un procédé de surveillance et de régulation de procédés de dépôt chimique ou électrochimique de couches minces composites, se fondant sur l'utilisation de solutions et/ou de suspensions en phase liquide, par des mesures en spectroscopie Raman effectuées dans des conditions en temps réel au cours du procédé et/ou à la fin du procédé. Le procédé selon l'invention comprend les étapes suivantes : a) définition des régions spectrales associées aux modes de vibration active Raman des différentes phases caractéristiques de la couche mince ; b) obtention du spectre Raman correspondant à la couche mince en présence de la solution et/ou de la suspension liquide ; c) évaluation des intensités intégrales du spectre obtenues dans chacune desdites régions spectrales ; d) comparaison des intensités intégrales aux valeurs correspondant à un étalonnage antérieur, l'objectif étant de déterminer si l'évolution dans le temps des paramètres de la couche pendant sa croissance, et/ou sa valeur à la fin du procédé, correspondent aux paramètres caractéristiques prédéfinis pour le procédé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)