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1. (WO2011157883) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE STRUCTURE D'ANTENNE À AUTO-COMPENSATION PAR GRAVURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2011/157883 N° de la demande internationale : PCT/FI2010/050516
Date de publication : 22.12.2011 Date de dépôt international : 17.06.2010
CIB :
H01Q 1/22 (2006.01) ,H01Q 1/38 (2006.01) ,H01Q 9/16 (2006.01) ,C23F 1/02 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
Q
ANTENNES
1
Détails de dispositifs associés aux antennes
12
Supports; Moyens de montage
22
par association structurale avec d'autres équipements ou objets
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
Q
ANTENNES
1
Détails de dispositifs associés aux antennes
36
Forme structurale pour éléments rayonnants, p.ex. cône, spirale, parapluie
38
formés par une couche conductrice sur un support isolant
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
Q
ANTENNES
9
Antennes électriquement courtes dont les dimensions ne sont pas supérieures à deux fois la longueur d'onde et constituées par des éléments rayonnants conducteurs actifs
04
Antennes résonnantes
16
avec alimentation intermédiaire entre les extrémités de l'antenne, p.ex. dipôle alimenté par le centre
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
F
ENLÈVEMENT NON MÉCANIQUE DE MATÉRIAU MÉTALLIQUE DES SURFACES; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; MOYENS POUR EMPÊCHER L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL; PROCÉDÉS À ÉTAPES MULTIPLES POUR LE TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES UTILISANT AU MOINS UN PROCÉDÉ COUVERT PAR LA CLASSE C23 ET AU MOINS UN PROCÉDÉ COUVERT SOIT PAR LA SOUS-CLASSE C21D, SOIT PAR LA SOUS-CLASSE C22F, SOIT PAR LA CLASSE C25308
1
Décapage de matériaux métalliques par des moyens chimiques
02
Gravure locale
Déposants :
MANNINEN, Antti [FI/FI]; FI (UsOnly)
SMARTRAC IP B.V. [NL/NL]; Strawinskylaan 851 NL-1077 XX Amsterdam, NL (AllExceptUS)
Inventeurs :
MANNINEN, Antti; FI
Mandataire :
EEROLA, Katja; TAMPEREEN PATENTTITOIMISTO OY Hermiankatu 1 B FI-33720 Tampere, FI
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING AN AUTOCOMPENSATING ANTENNA STRUCTURE BY ETCHING
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE STRUCTURE D'ANTENNE À AUTO-COMPENSATION PAR GRAVURE
Abrégé :
(EN) An antenna structure (2) comprising at least a non-conducting substrate (3) and an electrically conductive antenna line configuration (4', 4'', 4''') supported by the substrate (3), the electrically conductive antenna line configuration (4', 4'', 4''') being formed in an etching process by etching away locally by etchant an electrically conductive coating material supported by the substrate (3). The antenna structure (2) further comprises at least one electrically conductive tuning element (7) of the same electrically conductive coating material. The tuning element (7) is at least partly formed simultaneously with the electrically conductive antenna line configuration (4', 4'', 4''') in the same etching process, the tuning element having after the etching process dimensional shape and geometry to at least partly compensate the effect of over-or under-etching in the electrical properties of the antenna structure (2).
(FR) La présente invention concerne une structure d'antenne (2) comprenant au moins un substrat non conducteur (3) et une configuration de ligne d'antenne électroconductrice (4', 4'', 4''') portée par le substrat (3), la configuration de ligne d'antenne électroconductrice (4', 4'', 4''') étant formée au cours d'un processus de gravure par retrait local par gravure, à l'aide d'un agent de gravure, d'un matériau de revêtement électroconducteur porté par le substrat (3). La structure d'antenne (2) comprend en outre au moins un élément de réglage électroconducteur (7) du même matériau de revêtement électroconducteur. L'élément de réglage (7) est au moins en partie formé simultanément avec la configuration de ligne d'antenne électroconductrice (4', 4'', 4''') au cours du même processus de gravure, l'élément de réglage présentant, après le processus de gravure, une forme et une géométrie dimensionnelles pour compenser au moins en partie l'effet de gravure excessive ou de gravure insuffisante dans les propriétés électriques de la structure d'antenne (2).
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)