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1. (WO2011157684) SYSTÈME OPTIQUE

Pub. No.:    WO/2011/157684    International Application No.:    PCT/EP2011/059793
Publication Date: Fri Dec 23 00:59:59 CET 2011 International Filing Date: Wed Jun 15 01:59:59 CEST 2011
IPC: G03F 7/20
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH
EHM, Dirk Heinrich
WEISS, Markus
ZACZEK, Christoph
HACKL, Tobias
SEITZ, Wolfgang
Inventors: EHM, Dirk Heinrich
WEISS, Markus
ZACZEK, Christoph
HACKL, Tobias
SEITZ, Wolfgang
Title: SYSTÈME OPTIQUE
Abstract:
La présente invention se rapporte à un système optique pour la lithographie par ultraviolets extrêmes qui permet d'empêcher que des éléments optiques réfléchissants (2) pour la lithographie par ultraviolets extrêmes ne soient électriquement chargés à mesure qu'ils sont éclairés avec un rayonnement ultraviolet extrême (4). Ledit système optique comprend un élément optique réfléchissant (2) comprenant un substrat (21) ayant un revêtement hautement réfléchissant (22) qui émet des électrons secondaires lorsqu'il est éclairé avec un rayonnement ultraviolet extrême (4), et une source (3) de particules chargées électriquement qui est disposée de telle manière que les particules chargées électriquement puissent être appliquées à l'élément optique réfléchissant (2), la source (3) étant un canon qui applique des électrons à l'élément optique réfléchissant (2) comme seul moyen de compensation des porteurs de charge.