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1. (WO2011157335) PÂTES MULTIPHASES À RÉTICULER ET À GRAVER POUR LA FORMATION DE MOTIFS DE CARACTÉRISTIQUES À HAUTE RÉSOLUTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/157335    N° de la demande internationale :    PCT/EP2011/002427
Date de publication : 22.12.2011 Date de dépôt international : 17.05.2011
CIB :
C09K 13/04 (2006.01), C09K 13/00 (2006.01)
Déposants : MERCK PATENT GMBH [DE/DE]; Frankfurter Strasse 250 64293 Darmstadt (DE) (Tous Sauf US).
NANO-TERRA, INC. [US/US]; 790 Memorial Drive, Suite 202 Cambridge, MA 02139 (US) (Tous Sauf US).
GILLIES, Jennifer [US/US]; (US) (US Seulement).
KUEGLER, Ralf [DE/US]; (US) (US Seulement).
STERN, Eric [US/US]; (US) (US Seulement).
MAYERS, Brian [US/US]; (US) (US Seulement).
REUST, Patrick [US/US]; (US) (US Seulement).
HUNTING, Lindsay [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : GILLIES, Jennifer; (US).
KUEGLER, Ralf; (US).
STERN, Eric; (US).
MAYERS, Brian; (US).
REUST, Patrick; (US).
HUNTING, Lindsay; (US)
Données relatives à la priorité :
61/354,454 14.06.2010 US
Titre (EN) CROSS-LINKING AND MULTI-PHASE ETCH PASTES FOR HIGH RESOLUTION FEATURE PATTERNING
(FR) PÂTES MULTIPHASES À RÉTICULER ET À GRAVER POUR LA FORMATION DE MOTIFS DE CARACTÉRISTIQUES À HAUTE RÉSOLUTION
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a novel etching media in the form of printable, homogeneous etching pastes with non-Newtonian flow properties for the improved etching of inorganic oxides and silicon surfaces and which allow to prepare smaller features.
(FR)Cette invention concerne un nouveau milieu de gravure sous la forme de pâtes à graver homogènes, imprimables ayant des propriétés d'écoulement non-Newtonniennes pour la gravure améliorée des oxydes inorganiques et des surfaces en silicium et qui permet de préparer de plus petites caractéristiques.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)