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1. (WO2011156625) MINI-ENVIRONNEMENT À ÉCOULEMENT RÉGULÉ À ENCEINTE TOTALE POUR CHAMBRES À FILM MINCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2011/156625 N° de la demande internationale : PCT/US2011/039838
Date de publication : 15.12.2011 Date de dépôt international : 09.06.2011
CIB :
C23C 16/513 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16
Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
44
caractérisé par le procédé de revêtement
50
au moyen de décharges électriques
513
utilisant des jets de plasma
Déposants :
XIE, Jun [US/US]; US (UsOnly)
FAIRBAIRN, Kevin, P. [US/US]; US (UsOnly)
LIU, Charles [US/US]; US (UsOnly)
LEAHEY, Patrick [US/US]; US (UsOnly)
RUCK, Robert, L. [US/US]; US (UsOnly)
BLUCK, Terry [US/US]; US (UsOnly)
INTEVAC, INC. [US/US]; 3560 Bassett Street Santa Clara, CA 95054, US (AllExceptUS)
Inventeurs :
XIE, Jun; US
FAIRBAIRN, Kevin, P.; US
LIU, Charles; US
LEAHEY, Patrick; US
RUCK, Robert, L.; US
BLUCK, Terry; US
Mandataire :
BACH, Joseph; Nixon Peabody LLP 401 9th Street, N.W., Suite 900 Washington, DC 20004, US
Données relatives à la priorité :
61/353,16409.06.2010US
Titre (EN) FULL-ENCLOSURE, CONTROLLED-FLOW MINI-ENVIRONMENT FOR THIN FILM CHAMBERS
(FR) MINI-ENVIRONNEMENT À ÉCOULEMENT RÉGULÉ À ENCEINTE TOTALE POUR CHAMBRES À FILM MINCE
Abrégé :
(EN) An enclosure for generating a secondary environment within a processing chamber for coating a substrate. An enclosure wall forms a secondary environment encompassing the coating source, plasma, and the substrate, and separating them from interior of the processing chamber. The enclosure wall includes a plurality of pumping channels for diverting gaseous flow away from the substrate. The channels have an intake of larger diameter from the exhaust opening and are oriented at an angle with the intake opening pointing away from the deposition source. A movable seal enables transport of the substrate in open position and processing the substrate in closed position. The seal may be formed as a labyrinth seal to avoid particle generation from a standard contact seal.
(FR) L'invention porte sur une enceinte pour générer un environnement secondaire à l'intérieur d'une chambre de traitement pour revêtir un substrat. Une paroi d'enceinte forme un environnement secondaire englobant la source de revêtement, le plasma et le substrat, et les séparant de l'intérieur de la chambre de traitement. La paroi d'enceinte comprend une pluralité de canaux de pompage pour dévier un écoulement gazeux de façon à l'éloigner du substrat. Les canaux ont une admission ayant un diamètre supérieur à celui de l'ouverture d'évacuation, et sont orientés selon un certain angle, l'ouverture d'admission pointant de façon à s'éloigner de la source de dépôt. Un joint d'étanchéité mobile permet le transport du substrat en position ouverte et le traitement du substrat en position fermée. Le joint d'étanchéité peut être formé sous la forme d'un joint d'étanchéité labyrinthe afin d'éviter une génération de particules par rapport à un joint d'étanchéité à contact standard.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)