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1. (WO2011156055) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE COMMANDE DE DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/156055    N° de la demande internationale :    PCT/US2011/033393
Date de publication : 15.12.2011 Date de dépôt international : 21.04.2011
CIB :
C23C 16/00 (2006.01), B05C 11/02 (2006.01), C23C 14/00 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; Akasaka Biz Tower 3-1 Akasaka 5-chome Minato-ku Tokyo, 107-6325 (JP) (Tous Sauf US).
LEE, Eric, M. [US/US]; (US) (US Seulement).
FAGUET, Jacques [FR/US]; (US) (US Seulement).
STRANG, Eric, J. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : LEE, Eric, M.; (US).
FAGUET, Jacques; (US).
STRANG, Eric, J.; (US)
Mandataire : KRISTI L. DAVIDSON, ESQ.; Wood, Harron & Evans, L.L.P. 2700 Carew Tower 441 Vine Street Cincinnati OH 45202 (US)
Données relatives à la priorité :
12/814,301 11.06.2010 US
12/814,278 11.06.2010 US
Titre (EN) APPARATUS AND METHOD FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION CONTROL
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE COMMANDE DE DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR
Abrégé : front page image
(EN)A gas heating device and a processing system for use therein are described for depositing a thin film on a substrate using a vapor deposition process. The gas heating device includes a heating element array having a plurality of heating element zones configured to receive a flow of a film forming composition across or through said plurality of heating element zones in order to cause pyrolysis of one or more constituents of the film forming composition when heated. Additionally, the processing system may include a substrate holder configured to support a substrate. The substrate holder may include a backside gas supply system configured to supply a heat transfer gas to a backside of said substrate, wherein the backside gas supply system is configured to independently supply the heat transfer gas to multiple zones at the backside of the substrate. Furthermore, a method of depositing a thin film on a substrate in a deposition system is described.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de chauffage au gaz, ainsi qu'un système de traitement destiné à être utilisé dans celui-ci, permettant un dépôt d'une couche mince sur un substrat grâce à un processus de dépôt en phase vapeur. Le dispositif de chauffage au gaz comprend une matrice d'éléments de chauffage présentant une pluralité de zones d'éléments de chauffage conçues pour recevoir un flux d'une composition de formation de couche transversalement ou longitudinalement à ladite pluralité de zones d'éléments de chauffage afin de provoquer une pyrolyse d'un ou plusieurs composants de la composition de formation de couche lors d'un chauffage. De plus, le système de traitement peut comporter un porte-substrat conçu pour supporter un substrat. Le porte-substrat peut comporter un système de délivrance de gaz à une surface arrière conçu pour délivrer un gaz de transfert de chaleur à une surface arrière dudit substrat. Le système de délivrance de gaz à une surface arrière est conçu pour délivrer de manière indépendante le gaz de transfert de chaleur à de multiples zones au niveau de la surface arrière du substrat. La présente invention concerne en outre un procédé de dépôt d'une couche mince sur un substrat dans un système de dépôt.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)