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1. (WO2011155372) CELLULE SOLAIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/155372    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/062596
Date de publication : 15.12.2011 Date de dépôt international : 01.06.2011
CIB :
H01L 31/04 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (Tous Sauf US).
YOKOSAWA, Yuhji; (US Seulement).
AKADA, Hiroyuki; (US Seulement).
NISHINO, Mitsutoshi; (US Seulement)
Inventeurs : YOKOSAWA, Yuhji; .
AKADA, Hiroyuki; .
NISHINO, Mitsutoshi;
Mandataire : Fukami Patent Office, p.c.; Nakanoshima Central Tower, 2-7, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-132226 09.06.2010 JP
Titre (EN) SOLAR CELL
(FR) CELLULE SOLAIRE
(JA) 太陽電池
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a solar cell (1) provided with a silicon substrate (4), a texture structure (5) disposed on the side of the light-receiving surface of the silicon substrate (4), a light-receiving surface passivation film (13) disposed on the texture structure (5), and an anti-reflective film (12) disposed on the light-receiving surface passivation film (13), wherein the average texture side length of the texture structure (5) is 7 µm or more.
(FR)L'invention porte sur une cellule solaire (1), qui comporte un substrat en silicium (4), une structure texturée (5) disposée sur le côté de la surface recevant la lumière du substrat en silicium (4), un film de passivation de surface recevant la lumière (13) disposé sur la structure texturée (5), et un film anti-réfléchissant (12) disposé sur le film de passivation de surface recevant la lumière (13), la longueur de côté de texture moyenne de la structure texturée (5) étant de 7 µm ou plus.
(JA) シリコン基板(4)と、シリコン基板(4)の受光面側に設けられたテクスチャ構造(5)と、テクスチャ構造(5)の上に設けられた受光面パッシベーション膜(13)と、受光面パッシベーション膜(13)の上に設けられた反射防止膜(12)とを含み、テクスチャ構造(5)の平均テクスチャ辺長が7μm以上である太陽電池(1)である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)