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1. (WO2011155105) DISPOSITIF À SEMI-CONDUCTEURS, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ

Pub. No.:    WO/2011/155105    International Application No.:    PCT/JP2011/001068
Publication Date: Fri Dec 16 00:59:59 CET 2011 International Filing Date: Fri Feb 25 00:59:59 CET 2011
IPC: H01L 21/337
H01L 21/8222
H01L 21/8232
H01L 21/8248
H01L 27/06
H01L 27/095
H01L 29/808
Applicants: PANASONIC CORPORATION
パナソニック株式会社
OOOKA, Masato
大岡正人
MATSUI, Osamu
松井靖
TSUJINO, Shuji
辻野秀治
Inventors: OOOKA, Masato
大岡正人
MATSUI, Osamu
松井靖
TSUJINO, Shuji
辻野秀治
Title: DISPOSITIF À SEMI-CONDUCTEURS, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
Abstract:
La présente invention concerne un dispositif à semi-conducteurs, comprenant une région de canal d'un premier type de conductivité (105) sur la partie de surface d'un substrat semi-conducteur (101). Une région de grille d'un second type de conductivité (107) est pourvue sur la partie de surface de la région de canal (105). Une première région semi-conductrice du second type de conductivité (104) est pourvue sur le côté inférieur de la région de canal (105). Une région de source/drain du premier type de conductivité est pourvue sur les deux côtés de la région de grille (107) sur la partie de surface de la région de canal (105), lesdits côtés étant dans le sens de la longueur de canal. Des secondes régions semi-conductrices du second type de conductivité (106) à haute concentration d'impuretés sont pourvues sur les deux côtés de la région de canal (105) sur le substrat semi-conducteur (101), lesdits côtés étant dans le sens de la largeur de canal.