WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2011154875) COMPOSITION AQUEUSE ALCALINE DE GRAVURE ET DE NETTOYAGE ET PROCÉDÉ POUR LE TRAITEMENT DE LA SURFACE DE SUBSTRATS EN SILICIUM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/154875    N° de la demande internationale :    PCT/IB2011/052418
Date de publication : 15.12.2011 Date de dépôt international : 01.06.2011
CIB :
C09K 13/00 (2006.01), C11D 7/34 (2006.01), C11D 7/36 (2006.01), C23F 1/24 (2006.01), H01L 21/461 (2006.01)
Déposants : BASF SE [DE/DE]; 67056 Ludwigshafen (DE) (Tous Sauf US).
BASF (CHINA) COMPANY LIMITED [CN/CN]; 300 Jiangxinsha Road Shanghai, 200137 (CN) (MN only).
FERSTL, Berthold [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
BRAUN, Simon [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
FEßENBECKER, Achim [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : FERSTL, Berthold; (DE).
BRAUN, Simon; (DE).
FEßENBECKER, Achim; (DE)
Mandataire : FITZNER, Uwe; Hauser Ring 10 40878 Ratingen (DE)
Données relatives à la priorité :
61/352,831 09.06.2010 US
Titre (EN) AQUEOUS ALKALINE ETCHING AND CLEANING COMPOSITION AND METHOD FOR TREATING THE SURFACE OF SILICON SUBSTRATES
(FR) COMPOSITION AQUEUSE ALCALINE DE GRAVURE ET DE NETTOYAGE ET PROCÉDÉ POUR LE TRAITEMENT DE LA SURFACE DE SUBSTRATS EN SILICIUM
Abrégé : front page image
(EN)An aqueous alkaline etching and cleaning composition for treating the surface of silicon substrates, the said composition comprising: (A) a quaternary ammonium hydroxide; and (B) a component selected from the group consisting of water-soluble acids and their water-soluble salts of the general formulas (I) to (V): (R1-S03-)nXn+ (I), R-P032- (Xn+)3-n (II); (RO-S03-)nXn+ (III), RO-P032- (Xn+)3-n, (IV), and [(RO)2P02-] nXn+ (V); wherein the n = 1 or 2; X is hydrogen or alkaline or alkaline-earth metal; the variable R1 is an olefinically unsaturated aliphatic or cycloaliphatic moiety and R is R1 or an alkylaryl moiety; the use of the composition for treating silicon substrates, a method for treating the surface of silicon substrates, and methods for manufacturing devices generating electricity upon the exposure to electromagnetic radiation.
(FR)L'invention porte sur une composition aqueuse alcaline de gravure et de nettoyage pour le traitement de la surface de substrats en silicium, ladite composition comprenant : (A) un hydroxyde d'ammonium quaternaire ; et (B) un composant choisi dans le groupe constitué par les acides hydrosolubles et leurs sels hydrosolubles représentés par les formules générales (I) à (V): (R1-S03-)nXn+ (I) ; R-PO32- (Xn+)3-n (II) ; (RO-S03-)nXn+ (III) ; RO-PO32- (Xn+)3-n (IV) ; et [(RO)2P02-] nXn+ (V) ; dans les formules, n = 1 ou 2 ; X représente l'hydrogène ou un métal alcalin ou alcalinoterreux ; la variable R1 représente une fraction aliphatique ou cycloaliphatique à insaturation oléfinique et R représente R1 ou une fraction alkylaryle. L'invention porte également sur l'utilisation de la composition pour le traitement de substrats en silicium, sur un procédé pour le traitement de la surface de substrats en silicium et sur des procédés pour la fabrication de dispositifs produisant de l'électricité lors de l'exposition à un rayonnement électromagnétique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)