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1. (WO2011154227) SYSTÈME OPTIQUE D'UN APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2011/154227 N° de la demande internationale : PCT/EP2011/058040
Date de publication : 15.12.2011 Date de dépôt international : 18.05.2011
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : SAENGER, Ingo[DE/DE]; DE (UsOnly)
DITTMANN, Olaf[DE/DE]; DE (UsOnly)
ZIMMERMANN, Joerg[DE/DE]; DE (UsOnly)
CARL ZEISS SMT GMBH[DE/DE]; Rudolf-Eber-Straße 2 73447 Oberkochen, DE (AllExceptUS)
Inventeurs : SAENGER, Ingo; DE
DITTMANN, Olaf; DE
ZIMMERMANN, Joerg; DE
Mandataire : FRANK, Hartmut; Demski, Frank & Nobbe Patentanwälte Reichspräsidentenstr. 21-25 45470 Mülheim, DE
Données relatives à la priorité :
10 2010 029 905.710.06.2010DE
61/353,25010.06.2010US
Titre (EN) OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) SYSTÈME OPTIQUE D'UN APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN) The invention concerns an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus comprising at least one mirror arrangement (200) having a plurality of mirror elements which are displaceable independently of each other for altering an angular distribution of the light reflected by the mirror arrangement, and a polarisation-influencing optical arrangement (300, 800, 900) comprising a first lambda/2 plate (310, 810, 910) and at least one second lambda/2 plate (320, 820, 920).
(FR) La présente invention concerne un système optique d'un appareil d'exposition par projection microlithographique comprenant au moins un agencement de miroirs (200) qui présente une pluralité d'éléments miroirs pouvant être déplacés indépendamment les uns des autres afin de modifier la distribution angulaire de la lumière réfléchie par ledit agencement de miroirs, et un agencement optique ayant une influence sur la polarisation (300, 800, 900) qui comporte une première plaque lambda/2 (310, 810, 910) ainsi qu'au moins une seconde plaque lambda/2 (320, 820, 920).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)