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1. (WO2011152959) PROCÉDÉS DE FORMATION DE MOTIFS SUR DES SUBSTRATS

Pub. No.:    WO/2011/152959    International Application No.:    PCT/US2011/035721
Publication Date: Fri Dec 09 00:59:59 CET 2011 International Filing Date: Tue May 10 01:59:59 CEST 2011
IPC: H01L 21/027
Applicants: MICRON TECHNOLOGY , INC.
DEVILLIERS, Anton
SILLS, Scott
Inventors: DEVILLIERS, Anton
SILLS, Scott
Title: PROCÉDÉS DE FORMATION DE MOTIFS SUR DES SUBSTRATS
Abstract:
La présente invention concerne un procédé de formation d'un motif sur un substrat comprenant une étape consistant à former des éléments de motif espacés sur un substrat. Un polymère est adsorbé sur les surfaces latérales extérieures desdits éléments de motif espacés. Puis, et au choix, le matériau constitutif desdits éléments de motif espacés est éliminé de façon sélective par rapport au polymère adsorbé ou le matériau constitutif du polymère adsorbé est éliminé de façon sélective par rapport aux éléments de motif espacés pour former un motif sur le substrat. Dans un mode de réalisation, le polymère présente une longueur de chaîne connue et comporte des extrémités longitudinales opposées. L'une des extrémités longitudinales du polymère est adsorbée sur les surfaces latérales extérieures, si bien que le polymère adsorbé fait saillie dans le sens de la longueur depuis les surfaces latérales extérieures, ladite longueur de chaîne délimitant une épaisseur latérale essentiellement homogène du polymère adsorbé sur les éléments de motif espacés. D'autres modes de réalisation sont également envisagés.