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1. (WO2011152092) FILM D'ÉLECTRODE ET DISPOSITIF ORGANIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2011/152092 N° de la demande internationale : PCT/JP2011/054628
Date de publication : 08.12.2011 Date de dépôt international : 01.03.2011
CIB :
H05B 33/26 (2006.01) ,F21S 2/00 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/02 (2006.01)
Déposants : MATSUURA Yoshinori[JP/JP]; JP (UsOnly)
KITAJIMA Nozomu[JP/JP]; JP (UsOnly)
ABE Naohiko[JP/JP]; JP (UsOnly)
MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD.[JP/JP]; 11-1, Osaki 1-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1418584, JP (AllExceptUS)
Inventeurs : MATSUURA Yoshinori; JP
KITAJIMA Nozomu; JP
ABE Naohiko; JP
Mandataire : KATSUNUMA Hirohito; Kyowa Patent & Law Office, Room 323, Fuji Bldg., 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005, JP
Données relatives à la priorité :
2010-12908304.06.2010JP
Titre (EN) ELECTRODE FOIL AND ORGANIC DEVICE
(FR) FILM D'ÉLECTRODE ET DISPOSITIF ORGANIQUE
(JA) 電極箔および有機デバイス
Abrégé : front page image
(EN) Disclosed are: an electrode foil which serves as a supporting base, an electrode and a reflective layer, while exhibiting excellent thermal conductivity; and an organic device which uses the electrode foil. The electrode foil comprises a metal foil, and at least one outermost surface of the electrode foil is an ultra flat surface that has an arithmetic mean roughness (Ra) of 10.0 nm or less as determined in accordance with JIS B 0601-2001.
(FR) L'invention concerne un film d'électrode qui sert de base porteuse, d'électrode et de couche réfléchissante et qui présente une excellente conductivité thermique ; et un dispositif organique qui utilise le film d'électrode. Le film d'électrode comprend un film métallique et au moins une surface extérieure du film d'électrode est une surface ultraplate qui a une rugosité arithmétique moyenne (Ra) de 10,0 nm ou moins, mesurée selon la norme JIS B 0601-2001.
(JA)  支持基材、電極および反射層としての機能を兼ね備え、かつ、熱伝導性に優れた、電極箔ならびにそれを用いた有機デバイスが提供される。この電極箔は、金属箔を備えてなり、電極箔の少なくとも一方の最表面が、JIS B 0601-2001に準拠して測定される、10.0nm以下の算術平均粗さRaを有する超平坦面である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)