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1. (WO2011152066) COMPOSÉ ESTER D'OXIME, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN COMPOSÉ ESTER D'OXIME, AMORCEUR DE PHOTOPOLYMÉRISATION ET COMPOSITION PHOTOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2011/152066 N° de la demande internationale : PCT/JP2011/003139
Date de publication : 08.12.2011 Date de dépôt international : 03.06.2011
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 02.04.2012
CIB :
C07D 209/86 (2006.01) ,C08F 2/50 (2006.01) ,G03F 7/031 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
D
COMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
209
Composés hétérocycliques contenant des cycles à cinq chaînons condensés avec d'autres cycles, ne comportant qu'un atome d'azote comme unique hétéro-atome du cycle
56
Systèmes cycliques contenant au moins trois cycles
80
condensés en [b, c] ou [b, d]
82
Carbazoles; Carbazoles hydrogénés
86
avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du système cyclique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
2
Procédés de polymérisation
46
Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire
48
par la lumière ultraviolette ou visible
50
avec des agents sensibilisants
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
028
avec des substances accroissant la photosensibilité, p.ex. photo-initiateurs
031
Composés organiques non couverts par le groupe G03F7/02975
Déposants : MATSUI, Yoshiyuki; null (UsOnly)
SORANAKA, Kazuyuki; null (UsOnly)
SAKAMOTO, Yuki; null (UsOnly)
DAITO CHEMIX CORPORATION[JP/JP]; 3-1-7, Matta-Omiya, Tsurumi-ku,Osaka-shi, Osaka 5380031, JP (AllExceptUS)
Inventeurs : MATSUI, Yoshiyuki; null
SORANAKA, Kazuyuki; null
SAKAMOTO, Yuki; null
Mandataire : OKADA, Kazuhide; Chiyoda Bldg. Kitakan,13-38, Naniwa-cho,Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300022, JP
Données relatives à la priorité :
2010-12929004.06.2010JP
Titre (EN) OXIME ESTER COMPOUND, PROCESS FOR PRODUCING OXIME ESTER COMPOUND, PHOTOPOLYMERIZATION INITIATOR, AND PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
(FR) COMPOSÉ ESTER D'OXIME, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN COMPOSÉ ESTER D'OXIME, AMORCEUR DE PHOTOPOLYMÉRISATION ET COMPOSITION PHOTOSENSIBLE
(JA) オキシムエステル化合物、オキシムエステル化合物の製造方法、光重合開始剤および感光性組成物
Abrégé :
(EN) Disclosed is an oxime ester compound represented by formula (I). [In formula (I), R1 and R2 each represents R, OR, COR, SR, CONRR', or CN; R3, R4, R5, R6, and R7 each represents a hydrogen atom, a halogen atom, R, OR, or SR; R8, R9, R10, R11, R12, R13, and R14 each represents a hydrogen atom, hydroxy, a halogen atom, R, OR, SR, or NRR'; and R and R' each represents an alkyl, an aryl, an aralkyl, or a heterocyclic group and each may have been substituted by a halogen atom and/or a heterocyclic group. The alkylene moieties of the alkyl group and aralkyl group represented by R and R' each may have been separated by an unsaturated bond, ether bond, thioether bond, or ester bond. R and R' may have been bonded to each other to form a ring.]
(FR) L'invention porte sur un composé ester d'oxime représenté par la formule (I). [Dans la formule (I), R1 et R2 représentent chacun R, OR, COR, SR, CONRR' ou CN; R3, R4, R5, R6 et R7 représentent chacun un atome d'hydrogène, un atome d'halogène, R, OR ou SR; R8, R9, R10, R11, R12, R13 et R14 représentent chacun un atome d'hydrogène, un groupe hydroxy, un atome d'halogène, R, OR, SR ou NRR' ; et chacun des radicaux R et R' représente un groupe alkyle, un groupe aryle, un groupe aralkyle ou un groupe hétérocyclique, et chacun peut avoir été substitué par un atome d'halogène et/ou un groupe hétérocyclique. Les fractions alkylène du groupe alkyle et du groupe aralkyle représentés par R et R' peuvent chacune avoir été séparée par une liaison insaturée, une liaison éther, une liaison thio-éther ou une liaison ester. R et R' peuvent avoir été liés l'un à l'autre pour former un cycle].
(JA) 下記一般式(I)で表されるオキシムエステル化合物。[式(I)中、R及びR2はR、OR、COR、SR、CONRR'又はCNを表し、R、R、R、R及びRは水素原子、ハロゲン原子、R、OR又はSRを表し、R、R、R10、R11、R12、R13及びR14は水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、R、OR、SR又はNRR'を表し、R及びR'は、アルキル基、アリール基、アラルキル基又は複素環基を表し、R及びR'はハロゲン原子及び/又は複素環基で置換されていてもよく、R及びR'のうちアルキル基及びアラルキル基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよく、またR及びR'は一緒になって環を形成していてもよい。]
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)