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1. (WO2011152048) CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/152048    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/003087
Date de publication : 08.12.2011 Date de dépôt international : 01.06.2011
CIB :
C04B 35/00 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01), H01L 21/363 (2006.01), H01L 29/786 (2006.01)
Déposants : IDEMITSU KOSAN CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008321 (JP) (Tous Sauf US).
TOMAI, Shigekazu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
EBATA, Kazuaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUZAKI, Shigeo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YANO, Koki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TOMAI, Shigekazu; (JP).
EBATA, Kazuaki; (JP).
MATSUZAKI, Shigeo; (JP).
YANO, Koki; (JP)
Mandataire : WATANABE, Kihei; Shibashin Kanda Bldg. 3rd Floor 26, Kanda Suda-cho 1-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1010041 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-126497 02.06.2010 JP
Titre (EN) SPUTTERING TARGET
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE
(JA) スパッタリングターゲット
Abrégé : front page image
(EN)A sintered oxide material comprising oxides of indium (In), gallium (Ga) and a tripositive metal and/or a tetrapositive metal (X), which is characterized in that the ratio of the content of the metal (X) to the total content of In and Ga is 100 to 10000 ppm (by weight).
(FR)Matériau d'oxyde fritté comprenant des oxydes d'indium (In), de gallium (Ga) et un métal tripositif et/ou un métal tétrapositif (X), qui est caractérisé en ce que le rapport de la teneur du métal (X) à la teneur totale d'In et de Ga est de 100 à 10000 ppm (en poids). A sintered oxide material comprising oxides of indium (In), gallium (Ga) and a tripositive metal and/or a tetrapositive metal (X), which is characterized in that the ratio of the content of the metal (X) to the total content of In and Ga is 100 to 10000 ppm (by weight).
(JA)インジウム(In)、ガリウム(Ga)及び正三価及び/又は正四価の金属Xの酸化物を含有し、InとGaの合計に対する金属Xの配合量が100~10000ppm(重量)であることを特徴とする酸化物焼結体。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)