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1. (WO2011151416) OUTILS EN DIAMANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/151416    N° de la demande internationale :    PCT/EP2011/059144
Date de publication : 08.12.2011 Date de dépôt international : 01.06.2011
CIB :
C01B 31/06 (2006.01), C09K 3/14 (2006.01), C30B 29/04 (2006.01), C30B 33/04 (2006.01)
Déposants : ELEMENT SIX LIMITED [GB/GB]; Isle of Man Freeport PO Box 6 Ballasalla Isle of Man IM99 6AQ (GB) (Tous Sauf US).
TWITCHEN, Daniel James [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
GEOGHEGAN, Sarah Louise [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
PERKINS, Neil [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
SCARSBROOK, Geoffrey Alan [GB/GB]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : TWITCHEN, Daniel James; (GB).
GEOGHEGAN, Sarah Louise; (GB).
PERKINS, Neil; (GB).
SCARSBROOK, Geoffrey Alan; (GB)
Mandataire : ATKINSON, Ian Anthony; Element Six Limited Group Intellectual Property 3rd Floor, Building 4, Chiswick Park, 566 Chiswick High Road London Greater London W4 5YE (GB)
Données relatives à la priorité :
1009296.3 03.06.2010 GB
61/350,973 03.06.2010 US
1012807.2 30.07.2010 GB
61/369,297 30.07.2010 US
1012809.8 30.07.2010 GB
61/369,314 30.07.2010 US
Titre (EN) DIAMOND TOOLS
(FR) OUTILS EN DIAMANT
Abrégé : front page image
(EN)A method comprising: selecting a diamond material; irradiating the diamond material to increase toughness and/or wear resistance of the diamond material; and processing the diamond material into one or more diamond tool pieces, wherein the diamond material is selected from the group consisting of: a HPHT diamond material having a total equivalent isolated nitrogen concentration in the range 1 to 600 ppm; a CVD diamond material having a total equivalent isolated nitrogen concentration in the range 0.005 to 100 ppm; and a natural diamond material having a total nitrogen concentration in the range 1 to 2000 ppm, wherein the irradiating comprises controlling energy and dosage of irradiation to provide the diamond material with a plurality of isolated vacancy point defects, the isolated vacancy point defects having a concentration in a range 1 x 1014 to 1 x 1021 vacancies/cm-3
(FR)Selon la présente invention, un procédé consiste à choisir un matériau en diamant, à exposer ledit matériau à des rayonnements pour accroître sa dureté et/ou sa résistance à l'usure, à transformer ledit matériau en diamant en au moins une pièce d'outil en diamant. Ce matériau en diamant est choisi dans le groupe comprenant un matériau en diamant HPHT (obtenu par haute pression-haute température) qui présente une concentration équivalente totale d'azote isolé comprise entre 1 et 600 ppm, un matériau en diamant CVD qui présente une concentration équivalente totale d'azote isolé comprise entre 0,005 et 100 ppm, et un matériau en diamant naturel qui présente une concentration totale d'azote comprise entre 1 et 2000 ppm, l'exposition aux rayonnements visant à réguler l'énergie et le dosage des rayonnements pour créer dans le matériau en diamant une pluralité de défauts lacunaires isolés, lesdits défauts possédant une concentration comprise entre 1 x 1014 et 1 x 1021 trous/cm-3.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)