Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2011151206) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE BUSE ET D'UN ENTONNOIR ASSOCIÉ EN UNE PLAQUE UNIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2011/151206 N° de la demande internationale : PCT/EP2011/058292
Date de publication : 08.12.2011 Date de dépôt international : 20.05.2011
CIB :
B41J 2/16 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41
IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
J
MACHINES À ÉCRIRE; MÉCANISMES D'IMPRESSION SÉLECTIVE, c. à d. MÉCANISMES IMPRIMANT AUTREMENT QUE PAR UTILISATION DE FORMES D'IMPRESSION; CORRECTION D'ERREURS TYPOGRAPHIQUES
2
Machines à écrire ou mécanismes d'impression sélective caractérisés par le procédé d'impression ou de marquage pour lequel ils sont conçus
005
caractérisés par la mise en contact sélective d'un liquide ou de particules avec un matériau d'impression
01
à jet d'encre
135
Ajutages
16
Fabrication d'ajutages
Déposants :
VAN DER MEER, René J. [NL/NL]; NL (UsOnly)
BOESTEN, Hubertus M.J.M. [NL/NL]; NL (UsOnly)
BAKKER, Maarten J. [NL/NL]; NL (UsOnly)
WIJNGAARDS, David D.L. [NL/NL]; NL (UsOnly)
OCE-TECHNOLOGIES B.V. [NL/NL]; P.O. Box 101 St. Urbanusweg 43 NL-5914 CA Venlo, NL (AllExceptUS)
Inventeurs :
VAN DER MEER, René J.; NL
BOESTEN, Hubertus M.J.M.; NL
BAKKER, Maarten J.; NL
WIJNGAARDS, David D.L.; NL
Représentant
commun :
OCE-TECHNOLOGIES B.V.; P.O. Box 101 St. Urbanusweg 43 NL-5914 CA Venlo, NL
Données relatives à la priorité :
10164708.902.06.2010EP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING A NOZZLE AND AN ASSOCIATED FUNNEL IN A SINGLE PLATE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE BUSE ET D'UN ENTONNOIR ASSOCIÉ EN UNE PLAQUE UNIQUE
Abrégé :
(EN) A method for manufacturing a nozzle and an associated funnel in a single plate comprises providing the single plate, the plate being etchable; providing an etch resistant mask on the plate, the mask having a pattern, wherein the pattern comprises a first pattern part for etching the nozzle and a second pattern part for etching the funnel; covering one of the first pattern part and the second pattern part using a first cover; etching one of the nozzle and funnel corresponding to the pattern part not covered in step (c); removing the first cover; etching the other one of the nozzle and funnel; and removing the etch resistant mask.
(FR) Procédé de fabrication d'une buse et d'un entonnoir associé en une plaque unique, comportant les étapes consistant : (a) à mettre en place la plaque unique, la plaque pouvant être gravée chimiquement ; (b) à placer un masque résistant à la gravure chimique sur la plaque, le masque présentant un motif, le motif comportant une première partie de motif destinée à graver la buse et une deuxième partie de motif destinée à graver l'entonnoir ; (c) à recouvrir la première partie de motif ou la deuxième partie de motif à l'aide d'un premier couvercle ; (d) à graver chimiquement soit la buse, soit l'entonnoir correspondant à la partie de motif non recouverte à l'étape (c) ; (e) à retirer le premier couvercle ; (f) à graver l'autre partie parmi la buse et l'entonnoir ; et (g) à retirer le masque résistant à la gravure chimique.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)