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1. (WO2011151116) PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION DES PERFORMANCES D'UN MASQUE PHOTOLITHOGRAPHIQUE

Pub. No.:    WO/2011/151116    International Application No.:    PCT/EP2011/056869
Publication Date: Fri Dec 09 00:59:59 CET 2011 International Filing Date: Sat Apr 30 01:59:59 CEST 2011
IPC: G01N 23/225
G01N 23/22
Applicants: CARL ZEISS SMS GMBH
WAIBLINGER, Markus
BUDACH, Michael
SCHERÜBL, Thomas
BEYER, Dirk
Inventors: WAIBLINGER, Markus
BUDACH, Michael
SCHERÜBL, Thomas
BEYER, Dirk
Title: PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION DES PERFORMANCES D'UN MASQUE PHOTOLITHOGRAPHIQUE
Abstract:
L'invention concerne un procédé de détermination des performances d'un masque photolithographique à une longueur d'onde d'exposition comprenant les étapes consistant à faire en sorte qu'au moins un faisceau d'électrons balaye au moins une partie du masque photolithographique, à mesurer des signaux générés par ledit au moins un faisceau d'électrons interagissant avec ladite au moins une partie du masque photolithographique, et à déterminer les performances de ladite au moins une partie du masque photolithographique à la longueur d'onde d'exposition sur la base des signaux mesurés.