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1. (WO2011151109) POLYMÈRE AUTO-ASSEMBLABLE ET PROCÉDÉ D'UTILISATION EN LITHOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/151109    N° de la demande internationale :    PCT/EP2011/056308
Date de publication : 08.12.2011 Date de dépôt international : 20.04.2011
CIB :
C08F 293/00 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), B81C 1/00 (2006.01), B82Y 10/00 (2011.01), B82Y 30/00 (2011.01)
Déposants : ASML Netherlands B.V. [NL/NL]; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven (NL) (Tous Sauf US).
PEETERS, Emiel [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
WUISTER, Sander [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
KOOLE, Roelof [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : PEETERS, Emiel; (NL).
WUISTER, Sander; (NL).
KOOLE, Roelof; (NL)
Mandataire : WEENINK, Willem; De Run 6665 NL-5504 DT Veldhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
61/351,693 04.06.2010 US
Titre (EN) SELF-ASSEMBLABLE POLYMER AND METHOD FOR USE IN LITHOGRAPHY
(FR) POLYMÈRE AUTO-ASSEMBLABLE ET PROCÉDÉ D'UTILISATION EN LITHOGRAPHIE
Abrégé : front page image
(EN)A self-assemblable polymer is disclosed, having first and second molecular configurations with the first molecular configuration has a higher Flory Huggins parameter for the self-assemblable polymer than the second molecular configuration, and the self-assemblable polymer is configurable from the first molecular configuration to the second molecular configuration, from the second molecular configuration to the first molecular configuration, or both, by the application of a stimulus. The polymer is of use in a method for providing an ordered, periodically patterned layer of the polymer on a substrate, by ordering and annealing the polymer in its second molecular configuration and setting the polymer when it is in the first molecular configuration. The second molecular configuration provides better ordering kinetics and permits annealing of defects near its order/disorder transition temperature, while the first molecular configuration, with a higher order/disorder transition temperature, provides low line edge/width roughness for the pattern formed on setting.
(FR)L'invention porte sur un polymère auto-assemblable, ayant des première et seconde configurations moléculaires, la première configuration moléculaire ayant un paramètre de Flory Huggins, pour le polymère auto-assemblable, supérieur à celui de la seconde configuration moléculaire, et le polymère auto-assemblable pouvant être configuré de la première configuration moléculaire à la seconde configuration moléculaire, de la seconde configuration moléculaire à la première configuration moléculaire, ou les deux, par l'application d'un stimulus. Le polymère peut être utilisé dans un procédé consistant à disposer sur un substrat une couche du polymère, ordonnée et à motif périodique, par mise en ordre et recuit du polymère dans sa seconde configuration moléculaire, et durcissement du polymère quand il se trouve dans la première configuration moléculaire. La seconde configuration moléculaire fournit une meilleure cinétique de mise en ordre et permet le recuit de défauts au voisinage de sa température de transition ordre/désordre, tandis que la première configuration moléculaire, à une température de transition ordre/désordre plus élevée, réalise une faible rugosité de flanc/largeur de ligne, pour le motif formé après durcissement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)