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1. (WO2011150532) SYSTÈME ET PROCÉDÉ POUR RÉCUPÉRER UNE SOLUTION DE GRAVURE USAGÉE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2011/150532 N° de la demande internationale : PCT/CN2010/000787
Date de publication : 08.12.2011 Date de dépôt international : 03.06.2010
CIB :
C02F 1/72 (2006.01) ,C02F 1/461 (2006.01) ,C23F 1/46 (2006.01)
Déposants : NEHDI, Sadok[TN/TN]; TN (UsOnly)
KUTTLER AUTOMATION SYSTEMS (SUZHOU) CO., LTD.[CN/CN]; No. 71 Xingwu Rd. Suzhou, Jiangsu 215168, CN (AllExceptUS)
WUXI SUNTECH POWER CO., LTD.[CN/CN]; 17-6 Changjiang South Road, New District, Wuxi Jiangsu 214028, CN (AllExceptUS)
Inventeurs : NEHDI, Sadok; TN
Mandataire : CHINA PATENT AGENT (H.K.) LTD.; 22/F, Great Eagle Centre 23 Harbour Road Wanchai, Hong Kong, CN
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) SYSTEM AND METHOD FOR RECOVERING SPENT ETCHING SOLUTION
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ POUR RÉCUPÉRER UNE SOLUTION DE GRAVURE USAGÉE
Abrégé : front page image
(EN) A system for recovering a spent etching solution is provided. The system including an etching device which is used for producing the spent etching solution in an etching reaction, an oxidation device which includes a first processing section for removing ammonia from the spent etching solution and a second processing section for oxidizing the spent solution passed from the first processing section, a regeneration device for regenerating the spent etching solution passed from the second processing section and an electrolysis device for plate out copper from the spent solution passed from the second processing section. At the same time, a method for recovering a spent etching solution is provided. The spent etching solution, by the system and method, can be recovered up to almost 100%.
(FR) L'invention porte sur un système pour récupérer une solution de gravure usagée. Le système comprend un dispositif de gravure qui est utilisé pour produire la solution de gravure usagée dans une réaction de gravure, un dispositif d'oxydation qui comprend une première section de traitement pour retirer de l'ammoniac à partir de la solution de gravure usagée et une seconde section de traitement pour oxyder la solution usagée qui est passée par la première section de traitement, un dispositif de régénération pour régénérer la solution de gravure usagée qui est passée par la seconde section de traitement et un dispositif d'électrolyse pour plaquer du cuivre à partir de la solution usagée qui est passée par la seconde section de traitement. L'invention porte également sur un procédé pour récupérer une solution de gravure usagée. La solution de gravure usagée, par le système et par le procédé, peut être récupérée jusqu'à presque 100 %.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)