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1. (WO2011149918) MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE À RÉSISTIVITÉ DE GRANDE SURFACE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/149918    N° de la demande internationale :    PCT/US2011/037712
Date de publication : 01.12.2011 Date de dépôt international : 24.05.2011
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    04.04.2012    
CIB :
H01L 21/687 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01), H02N 13/00 (2006.01), B23Q 3/15 (2006.01), C04B 35/00 (2006.01)
Déposants : ENTEGRIS, INC. [US/US]; 129 Concord Road, Building 2 Billerica, MA 01821 (US) (Tous Sauf US).
VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. [US/US]; 35 Dory Road Gloucester, MA 01930-2297 (US) (Tous Sauf US).
COOKE, Richard, A. [US/US]; (US) (US Seulement).
STONE, Dale, K. [US/US]; (US) (US Seulement).
STONE, Lyudmila [US/US]; (US) (US Seulement).
BLAKE, Julian [US/US]; (US) (US Seulement).
SUURONEN, David [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : COOKE, Richard, A.; (US).
STONE, Dale, K.; (US).
STONE, Lyudmila; (US).
BLAKE, Julian; (US).
SUURONEN, David; (US)
Mandataire : CARROLL, Alice, O.; Hamilton, Brook, Smith & Reynolds, P.C. 530 Virginia Rd, P.O. Box 9133 Concord, MA 01742-9133 (US)
Données relatives à la priorité :
61/349,504 28.05.2010 US
Titre (EN) HIGH SURFACE RESISTIVITY ELECTROSTATIC CHUCK
(FR) MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE À RÉSISTIVITÉ DE GRANDE SURFACE
Abrégé : front page image
(EN)In accordance with an embodiment of the invention, there is provided an electrostatic chuck. The electrostatic chuck comprises an electrode, and a surface layer activated by a voltage in the electrode to form an electric charge to electrostatically clamp a substrate to the electrostatic chuck, the surface layer including a charge control layer comprising a surface resistivity of greater than about 1011 ohms per square.
(FR)La présente invention concerne un mandrin électrostatique. Le mandrin électrostatique comprend une électrode, et une couche superficielle activée par une tension dans l'électrode pour former une charge électrique pour fixer de manière électrostatique un substrat sur le mandrin électrostatique, la couche superficielle comportant une couche à charge contrôlée comprenant une résistivité superficielle supérieure à environ 1011 ohms par carré.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)