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1. (WO2011149682) APPAREIL ET PROCÉDÉS D'ÉLECTRODÉPOSITION CHIMIQUE RAPIDE POUR LA FABRICATION DE CELLULES SOLAIRES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/149682    N° de la demande internationale :    PCT/US2011/036339
Date de publication : 01.12.2011 Date de dépôt international : 12.05.2011
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    23.03.2012    
CIB :
H01L 31/18 (2006.01), H01L 31/042 (2006.01), H01L 31/0216 (2006.01)
Déposants : REEL SOLAR INC. [US/US]; 2219 Oakland Road San Jose, California 95131 (US) (Tous Sauf US).
WEINER, Kurt, H. [US/US]; (US) (US Seulement).
VERMA, Gaurav [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : WEINER, Kurt, H.; (US).
VERMA, Gaurav; (US)
Mandataire : OLYNICK, M; Kwan & Olynick LLP 1300 Clay Street, Ste. 600 Oakland, California 94612 (US)
Données relatives à la priorité :
12/787,330 25.05.2010 US
13/081,389 06.04.2011 US
Titre (EN) APPARATUS AND METHODS FOR FAST CHEMICAL ELECTRODEPOSITION FOR FABRICATION OF SOLAR CELLS
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉS D'ÉLECTRODÉPOSITION CHIMIQUE RAPIDE POUR LA FABRICATION DE CELLULES SOLAIRES
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates generally to electrodeposition apparatus and methods. When depositing films via electrodeposition, where the substrate has an inherent resistivity, for example, sheet resistance in a thin film, methods and apparatus of the invention are used to electrodeposit materials onto the substrate by forming a plurality of ohmic contacts to the substrate surface and thereby overcome the inherent resistance and electrodeposit uniform films. Methods and apparatus of the invention find particular use in solar cell fabrication.
(FR)L'invention concerne de manière générale un appareil et des procédés d'électrodéposition. Lors du dépôt de films par électrodéposition, lorsque le substrat possède une résistivité inhérente, par exemple une résistance en feuille dans un film fin, les procédés et l'appareil de la présente invention sont utilisés pour l'électrodéposition de matériaux sur le substrat en formant plusieurs contacts ohmiques sur la surface du substrat de manière à surmonter ainsi la résistance inhérente et à réaliser l'électrodéposition de films uniformes. Les procédés et l'appareil de la présente invention sont particulièrement utiles dans la fabrication de cellules solaires.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)