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1. (WO2011149625) PROCESSUS DE DÉPÔT ÉLECTROSTATIQUE DE PARTICULE STRATIFIÉ POUR LA FABRICATION D'UN ARTICLE ABRASIF ENDUIT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/149625    N° de la demande internationale :    PCT/US2011/035088
Date de publication : 01.12.2011 Date de dépôt international : 04.05.2011
CIB :
B24D 3/34 (2006.01), B24D 18/00 (2006.01), B05D 1/06 (2006.01), B24D 11/00 (2006.01)
Déposants : 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY [US/US]; 3M Center Post Office Box 33427 Saint Paul, Minnesota 55133-3427 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : MOREN, Louis, S.; (US).
KOETHE, Brian, G.; (US).
THURBER, Ernest, L.; (US)
Mandataire : BAUM, Scott, A.; 3M Center Office of Intellectual Property Counsel Post Office Box 33427 Saint Paul, Minnesota 55133-3427 (US)
Données relatives à la priorité :
12/786,622 25.05.2010 US
Titre (EN) LAYERED PARTICLE ELECTROSTATIC DEPOSITION PROCESS FOR MAKING A COATED ABRASIVE ARTICLE
(FR) PROCESSUS DE DÉPÔT ÉLECTROSTATIQUE DE PARTICULE STRATIFIÉ POUR LA FABRICATION D'UN ARTICLE ABRASIF ENDUIT
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a method of applying particles to a coated backing. A first layer of particles is created over a second layer of particles on a support surface and the first layer of particles is different in at least one property from the second layer of particles. A coated backing is positioned above the first and second layer of particles. An electrostatic field is applied simultaneously to the first and second layer of particles such that the first layer of particles closer to the coated backing are preferentially attracted to the coated backing first before the second layer of particles.
(FR)La présente invention concerne un procédé d'application de particules sur un support enduit. Une première couche de particules est créée au-dessus d'une seconde couche de particules sur une surface de support et la première couche de particules diffère de la seconde couche de particules par au moins une propriété. Un support enduit est positionné au-dessus des première et seconde couches de particules. Un champ électrostatique est appliqué simultanément sur les première et seconde couches de particules de telle sorte que la première couche de particules plus proche du support enduit est de préférence tout d'abord attirée vers le support enduit avant la seconde couche de particules.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)