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1. (WO2011149022) COMPOSITION D'ENCRE À BASE D'EAU POUR IMPRESSION PAR JET D'ENCRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/149022    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/062111
Date de publication : 01.12.2011 Date de dépôt international : 26.05.2011
CIB :
C09D 11/00 (2006.01), B41J 2/01 (2006.01), B41M 5/00 (2006.01)
Déposants : TOYO INK SC HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; 3-13, Kyobashi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048377 (JP) (Tous Sauf US).
TOYO INK CO., LTD. [JP/JP]; 3-13, Kyobashi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048378 (JP) (Tous Sauf US).
KOIKE, Takaaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KINOSHITA, Sachiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAKAI, Yoshiyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NISHINA, Akiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
UTSUGI, Masataka [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAKAHASHI, Yukitoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YODA, Atsushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUGIHARA, Masahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KOIKE, Takaaki; (JP).
KINOSHITA, Sachiko; (JP).
SAKAI, Yoshiyuki; (JP).
NISHINA, Akiko; (JP).
UTSUGI, Masataka; (JP).
TAKAHASHI, Yukitoshi; (JP).
YODA, Atsushi; (JP).
SUGIHARA, Masahiro; (JP)
Mandataire : MIYOSHI, Hidekazu; Toranomon Kotohira Tower, 2-8, Toranomon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-119960 26.05.2010 JP
2011-062918 22.03.2011 JP
Titre (EN) WATER-BASED JET PRINTING INK COMPOSITION
(FR) COMPOSITION D'ENCRE À BASE D'EAU POUR IMPRESSION PAR JET D'ENCRE
(JA) 水性インクジェット用インキ組成物
Abrégé : front page image
(EN)A water-based jet printing ink composition which comprises a pigment, a pigment-dispersing resin, resin fine particles (A), water, and a hydrophilic solvent (B), wherein the resin fine particles (A) are fine particles obtained by the emulsion polymerization of an ethylenically unsaturated monomer component and the hydrophilic solvent (B) comprises a glycol-type solvent (H) and an ethylene glycol ether-type solvent (I), said ethylenically unsaturated monomer component comprising: 20 to 80wt% of (C) an aromatic ethylenically unsaturated monomer that does not have any ionic functional group; 0.6 to 5wt% of (F) a water-soluble ethylenically unsaturated monomer consisting of both 0.5 to 3wt% of (D) an ethylenically unsaturated monomer that has a sulfonic acid group and 0.1 to 3wt% of (E) a non-ionic water-soluble ethylenically unsaturated monomer; and 0.1 to 10wt% of (G) a crosslinking ethylenically unsaturated monomer.
(FR)Composition d'encre à base d'eau pour impression par jet d'encre comprenant : un pigment, une résine de dispersion de pigments, de fines particules de résine (A), de l'eau et un solvant hydrophile (B), les fines particules de résine étant obtenues par polymérisation en émulsion d'un composant monomère à insaturation éthylénique, et le solvant hydrophile (B) comprenant un solvant de type glycol (H) et un solvant à l'éthylène glycol de type éther de glycol (I). Ledit composant monomère à insaturation éthylénique comprend : de 20 à 80% en poids de (C) un monomère aromatique à insaturation éthylénique sans groupe fonctionnel ionique ; de 0,6 à 5% en poids de (F) un monomère hydrosoluble à insaturation éthylénique comprenant à la fois de 0,5 à 3% en poids de (D) un monomère à insaturation éthylénique possédant un groupe acide suflonique et de 0,1 à 3% en poids (D) d'un monomère hydrosoluble non ionique à insaturation éthylénique ; et de 0,1 à 10% en poids (G) d'un monomère réticulant à insaturation éthylénique.
(JA) 顔料、顔料分散樹脂、樹脂微粒子(A)、水、親水性溶剤(B)を含む水性インクジェット組成物であって,樹脂微粒子(A)はイオン性官能基を有さない芳香族エチレン性不飽和単量体(C)20~80重量%と、スルホン酸基含有エチレン性不飽和単量体(D)0.5~3重量%と非イオン性の水溶性エチレン性不飽和単量体(E)0.1~3重量%とからなる水溶性エチレン性不飽和単量体(F)0.6~5重量%と、架橋性エチレン性不飽和単量体(G)0.1~10重量%とを含むエチレン性不飽和単量体を乳化重合してなり、親水性溶剤(B)はグリコール系溶剤(H)およびエチレングリコールエーテル系溶剤(I)を含む。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)