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1. (WO2011148844) SUBSTRAT EN VERRE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION CORRESPONDANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/148844    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/061486
Date de publication : 01.12.2011 Date de dépôt international : 19.05.2011
CIB :
G11B 5/84 (2006.01)
Déposants : KONICA MINOLTA OPTO, INC. [JP/JP]; 2970, Ishikawa-machi, Hachioji-shi, Tokyo 1928505 (JP) (Tous Sauf US).
FUKUMOTO, Naoyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUKUMOTO, Naoyuki; (JP)
Mandataire : Fukami Patent Office, p.c.; Nakanoshima Central Tower, 2-7, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-122738 28.05.2010 JP
Titre (EN) GLASS SUBSTRATE AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF
(FR) SUBSTRAT EN VERRE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION CORRESPONDANT
(JA) ガラス基板およびその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a method for producing a glass substrate which can be used as a substrate for a thermally assisted magnetic recording medium and which has a magnetic recording layer formed on the surface thereof. The method involves a substrate washing step during the process for the production of the glass substrate, wherein the substrate washing step comprises washing the substrate with a detergent and subsequently removing any organic material from the substrate.
(FR)L'invention concerne un procédé de production d'un substrat en verre qui peut être utilisé en tant que substrat destiné à un support d'enregistrement magnétique assisté thermiquement et qui comprend une couche d'enregistrement magnétique formée sur sa surface. Le procédé comprend une étape de lavage de substrat se déroulant au cours du procédé de production du substrat en verre, ladite étape consistant à laver le substrat à l'aide d'un détergent, puis d'éliminer tout matériau organique présent sur le substrat.
(JA) 熱アシスト磁気記録用媒体の基板として用いられ、その表面に磁気記録層が形成されるガラス基板の製造方法であって、ガラス基板の製造工程中に基板洗浄工程を含み、この基板洗浄工程は、洗剤を用いた洗浄後に有機物を除去する工程を有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)