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1. (WO2011147658) SYSTÈME OPTIQUE DESTINÉ À UN APPAREIL DE PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/147658    N° de la demande internationale :    PCT/EP2011/056830
Date de publication : 01.12.2011 Date de dépôt international : 29.04.2011
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
SÄNGER, Ingo [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SCHARNWEBER, Ralf [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
DITTMANN, Olaf [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
GRUNER, Toralf [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WEIß, Gundula [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
MAJOR, András G. [HU/DE]; (DE) (US Seulement).
VOGT, Martin [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
DEGÜNTHER, Markus [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WANGLER, Johannes [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
KORB, Thomas [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WALDIS, Severin [CH/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : SÄNGER, Ingo; (DE).
SCHARNWEBER, Ralf; (DE).
DITTMANN, Olaf; (DE).
GRUNER, Toralf; (DE).
WEIß, Gundula; (DE).
MAJOR, András G.; (DE).
VOGT, Martin; (DE).
DEGÜNTHER, Markus; (DE).
WANGLER, Johannes; (DE).
KORB, Thomas; (DE).
WALDIS, Severin; (DE)
Mandataire : FRANK, Hartmut; Demski, Frank & Nobbe Patentanwälte Reichspräsidentenstr. 21-25 45470 Mülheim (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2010 029 339.3 27.05.2010 DE
61/348,798 27.05.2010 US
Titre (EN) OPTICAL SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS
(FR) SYSTÈME OPTIQUE DESTINÉ À UN APPAREIL DE PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)The invention concerns an optical system for a microlithographic projection exposure apparatus and a microlithographic exposure method. In an embodiment an optical system for a microlithographic projection exposure apparatus includes at least one mirror arrangement (200, 720, 730, 920) having a plurality of mirror elements (200a, 200b, 200c, 721, 722, 733, 731, 732, 733,...) which are displaceable independently of each other for altering an angular distribution of the light reflected by the mirror arrangement (200, 720, 730, 920), and at least one manipulator (300, 720, 910) which is arranged downstream of said mirror arrangement (200, 720, 730, 920) in the light propagation direction and has a raster arrangement of manipulator elements (301, 302,..., 600, 721, 722, 723,... ) in such a way that light incident on the manipulator (300, 600, 720, 910) in operation of the optical system is influenced differently in its polarisation state and/or in its intensity in dependence on the incidence location, wherein at least two mutually different illumination settings (420, 520) are adjustable by the variation in an angular distribution of the light reflected by the mirror arrangement (200), wherein said illumination settings (420, 520) differ from each other in that identical regions of a pupil plane of the illumination system (10) are illuminated with light of a different polarisation state.
(FR)L'invention concerne un système optique destiné à un appareil d'exposition par projection microlithographique et un procédé d'exposition microlithographique. Selon un mode de réalisation, un système optique destiné à un appareil d'exposition par projection microlithographique comprend au moins un agencement de miroirs (200, 720, 730, 920) qui contient une pluralité d'éléments de miroirs (200a, 200b, 200c, 721, 722, 733, 731, 732, 733,…) qui peuvent être déplacés indépendamment les uns des autres afin de modifier une distribution angulaire de la lumière réfléchie par l'agencement de miroirs (200, 720, 730, 920) et au moins un dispositif de manipulation (300, 720, 910) qui est disposé en aval dudit agencement de miroirs (200, 720, 730, 920) dans la direction de propagation de la lumière et comprend un agencement en trames d'éléments de dispositif de manipulation (301, 302, …,600, 721, 722, 723, …) de manière à ce que la lumière incidente sur le dispositif de manipulation (300, 600, 720, 910), en fonctionnement, du système optique soit influencée différemment sur le plan de son état de polarisation et/ou de son intensité en fonction de l'emplacement d'incidence, au moins deux réglages d'éclairage mutuellement différents (420, 520) pouvant être ajustés par la variation d'une distribution angulaire de la lumière réfléchie par l'agencement de miroirs (200), lesdits réglages d'éclairage (420, 520) étant différents les uns des autres en ce que les régions identiques d'un plan de pupille du système d'éclairage (10) sont éclairées par la lumière d'un état de polarisation différent.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)