Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales

1. (WO2011147658) SYSTÈME OPTIQUE DESTINÉ À UN APPAREIL DE PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE

Pub. No.:    WO/2011/147658    International Application No.:    PCT/EP2011/056830
Publication Date: Fri Dec 02 00:59:59 CET 2011 International Filing Date: Sat Apr 30 01:59:59 CEST 2011
IPC: G03F 7/20
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH
SÄNGER, Ingo
SCHARNWEBER, Ralf
DITTMANN, Olaf
GRUNER, Toralf
WEIß, Gundula
MAJOR, András G.
VOGT, Martin
DEGÜNTHER, Markus
WANGLER, Johannes
KORB, Thomas
WALDIS, Severin
Inventors: SÄNGER, Ingo
SCHARNWEBER, Ralf
DITTMANN, Olaf
GRUNER, Toralf
WEIß, Gundula
MAJOR, András G.
VOGT, Martin
DEGÜNTHER, Markus
WANGLER, Johannes
KORB, Thomas
WALDIS, Severin
Title: SYSTÈME OPTIQUE DESTINÉ À UN APPAREIL DE PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abstract:
L'invention concerne un système optique destiné à un appareil d'exposition par projection microlithographique et un procédé d'exposition microlithographique. Selon un mode de réalisation, un système optique destiné à un appareil d'exposition par projection microlithographique comprend au moins un agencement de miroirs (200, 720, 730, 920) qui contient une pluralité d'éléments de miroirs (200a, 200b, 200c, 721, 722, 733, 731, 732, 733,…) qui peuvent être déplacés indépendamment les uns des autres afin de modifier une distribution angulaire de la lumière réfléchie par l'agencement de miroirs (200, 720, 730, 920) et au moins un dispositif de manipulation (300, 720, 910) qui est disposé en aval dudit agencement de miroirs (200, 720, 730, 920) dans la direction de propagation de la lumière et comprend un agencement en trames d'éléments de dispositif de manipulation (301, 302, …,600, 721, 722, 723, …) de manière à ce que la lumière incidente sur le dispositif de manipulation (300, 600, 720, 910), en fonctionnement, du système optique soit influencée différemment sur le plan de son état de polarisation et/ou de son intensité en fonction de l'emplacement d'incidence, au moins deux réglages d'éclairage mutuellement différents (420, 520) pouvant être ajustés par la variation d'une distribution angulaire de la lumière réfléchie par l'agencement de miroirs (200), lesdits réglages d'éclairage (420, 520) étant différents les uns des autres en ce que les régions identiques d'un plan de pupille du système d'éclairage (10) sont éclairées par la lumière d'un état de polarisation différent.