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1. (WO2011132835) SOUCHE DE LEVURE RÉSISTANTE À L'ÉTHANOL, À LA CHALEUR OU AU FURFURAL, ET GÈNE DE CELLE-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/132835    N° de la demande internationale :    PCT/KR2010/007863
Date de publication : 27.10.2011 Date de dépôt international : 09.11.2010
CIB :
C12N 1/19 (2006.01), C12N 15/81 (2006.01), C12N 15/31 (2006.01), C12P 7/06 (2006.01), C12R 1/85 (2006.01)
Déposants : EWHA UNIVERSITY-INDUSTRY COLLABORATION FOUNDATION [KR/KR]; Ehwa Women's Univ., 11-1 Daehyeon-dong Seodaemun-gu, Seoul 120-750 (KR) (Tous Sauf US).
CHOI, Won Ja [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Hyun Soo [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : CHOI, Won Ja; (KR).
KIM, Hyun Soo; (KR)
Mandataire : YANG, Boo-Hyun; Suite 301 Chungdong Building 1659-2 Inhundong, Gwanak-gu, Seoul 151-832 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2010-0038126 23.04.2010 KR
10-2010-0038140 23.04.2010 KR
10-2010-0101747 19.10.2010 KR
10-2010-0101754 19.10.2010 KR
10-2010-0110215 08.11.2010 KR
Titre (EN) ETHANOL-, HEAT- OR FURFURAL- RESISTANT YEAST STRAIN, AND GENE THEREOF
(FR) SOUCHE DE LEVURE RÉSISTANTE À L'ÉTHANOL, À LA CHALEUR OU AU FURFURAL, ET GÈNE DE CELLE-CI
(KO) 에탄올-, 열- 또는 퍼퓨랄-저항성 효모 균주, 및 이의 유전자
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to an ethanol-, heat- or furfural- resistant transformed yeast strain comprising: inactivated CMP2 or IMD4 gene (Tn-1); SSK2 or PPG1 gene (Tn-2); PAM1 gene (Tn-3); DLD3 gene (Tn-4); or MSN2 gene (Tn-5), and a use thereof. The yeast strain of the present invention can grow in high concentrations of ethanol, preferably in high concentrations of ethanol (for example, 5-15%). In addition, the yeast strain of the present invention includes a yeast strain capable of growing even at a high temperature (for example, 42 ℃ or 43 ℃) or even in a high concentration of furfural (for example, 15-50 mM). Therefore, the yeast strain of the present invention can more effectively produce ethanol in conditions of high temperature, high concentration of ethanol and high concentration of furfural which are necessary for an integrated process for overcoming existing ineffective multistep processes.
(FR)La présente invention concerne une souche de levure transformée résistante à l'éthanol, à la chaleur ou au furfural comprenant : le gène CMP2 ou IMD4 inactivé (Tn-1); le gène SSK2 ou PPG1 (Tn-2); le gène PAM1 (Tn-3); le gène DLD3 (Tn-4); ou le gène MSN2 (Tn-5), et une utilisation de celle-ci. La souche de levure de la présente invention peut croître dans des concentrations élevées d'éthanol, de préférence dans des concentrations élevées d'éthanol (par exemple, 5-15%). De plus, la souche de levure de la présente invention inclut une souche de levure capable de croître même à une température élevée (par exemple, 42°C ou 43°C ou même dans une concentration élevée de furfural (par exemple, 15‑50 mM). Par conséquent, la souche de levure de la présente invention peut plus efficacement produire de l'éthanol dans des conditions de température élevée, de concentration élevée d'éthanol et de concentration élevée de furfural qui sont nécessaires pour un procédé intégré pour surpasser les procédés à étapes multiples inefficaces existants.
(KO)본 발명은 불활성화된(inactivated) CMP2 또는 IMD4 유전자(Tn-1); SSK2 또는 PPG1 유전자(Tn-2); PAM1 유전자(Tn-3); DLD3 유전자(Tn-4); 또는MSN2 유전자(Tn-5)를 포함하는 에탄올-, 에탄올-/열- 또는 에탄올-/열-퍼퓨랄(furfural)-저항성 형질변형 효모 균주 및 이의 용도에 관한 것이다. 본 발명의 효모 균주는 고농도 에탄올, 바람직하게는 고농도 에탄올(예컨대, 5-15%)에서 성장할 수 있다. 또한, 본 발명의 효모 균주는 고온(예컨대, 42℃ 또는 43℃) 또는 고농도 퍼퓨랄(예컨대, 15-50 mM)에서도 성장할 수 있는 효모 균주를 포함한다. 따라서, 본 발명의 효모 균주는 기존의 비효율적인 다단계 공정을 극복하는 통합공정에 필요한 고온, 고농도 에탄올 및 고농도 퍼퓨랄 조건에서 보다 효율적으로 에탄올을 생산할 수 있다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)