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1. (WO2011132766) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D'EXAMEN
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/132766    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/059894
Date de publication : 27.10.2011 Date de dépôt international : 22.04.2011
CIB :
G01N 21/956 (2006.01), G01N 23/225 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (Tous Sauf US).
FUJIWARA Daiji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUJIWARA Daiji; (JP)
Mandataire : HIRAKI Yusuke; Atago Green Hills MORI Tower 32F, 5-1, Atago 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1056232 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-099355 23.04.2010 JP
Titre (EN) REVIEWING METHOD AND REVIEWING DEVICE
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D'EXAMEN
(JA) レビュー方法、およびレビュー装置
Abrégé : front page image
(EN)In accordance with a screening method based on preregistered defect sizes and a method for selecting an optical filter for a dark-field optical microscope, dark-field optical microscope images are captured repeatedly a plurality of times in order to obtain the optimum dark-field optical microscope image for calculating the barycentric coordinates of a defect, and then the defect to be reviewed is fine-aligned. Thus, in a defect-reviewing method and a defect-reviewing device that use a scanning electron microscope, it is possible to facilitate the observation of a sample by reducing the number of steps that need to be performed by a user to carry out coordinate transformation between the coordinate system of inspection data that have been input from an external inspection device and the coordinate system of the defect-reviewing device.
(FR)La présente invention concerne un procédé d'examen systématique reposant sur des dimensions de défauts préenregistrées et sur un procédé de sélection d'un filtre optique destiné à un microscope optique à champ sombre. En l'occurrence, on capture de façon répétée des images de microscope optique à champ sombre, une pluralité de fois, de façon à obtenir l'image de microscope optique à champ sombre optimale permettant de calculer les coordonnées barycentriques d'un défaut, puis on procède à l'alignement fin du défaut à examiner. Ainsi, dans le cas d'un procédé d'examen des défauts et d'un dispositif d'examen de défauts qui utilise un microscope électronique à balayage, il est possible de faciliter l'observation d'un échantillon en réduisant le nombre d'étapes que l'utilisateur devra effectuer pour mener à bien la transformation des coordonnées entre, d'une part le système de coordonnées de données d'examen qui ont été fournies en entrée depuis un dispositif d'examen externe, et d'autre part le système de coordonnées du dispositif d'examen des défauts.
(JA)予め登録された欠陥サイズによる選別方法および暗視野光学式顕微鏡の光学フィルタ選択方法に基づいて、欠陥の重心座標を算出するのに最適な暗視野光学式顕微鏡画像を得るため複数回の暗視野光学式顕微鏡画像の撮像を繰り返し、レビュー対象となる欠陥についてファインアライメントを実行する。これにより走査電子顕微鏡を用いた欠陥のレビュー方法、および欠陥のレビュー装置において、外部の検査装置から入力された検査データの座標系と欠陥レビュー装置の座標系の座標変換に要するユーザの工数を低減し、試料の観察を容易化することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)