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1. (WO2011132640) COMPOSITION FILMOGÈNE DE PLANARISATION ET SON EMPLOI DANS UN PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISQUES DURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/132640    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/059540
Date de publication : 27.10.2011 Date de dépôt international : 18.04.2011
CIB :
G11B 5/84 (2006.01), G11B 5/65 (2006.01)
Déposants : NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP) (Tous Sauf US).
KATO, Taku [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOBAYASHI, Junpei [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHUTO, Keisuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
Suzuki, Masayoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KATO, Taku; (JP).
KOBAYASHI, Junpei; (JP).
SHUTO, Keisuke; (JP).
Suzuki, Masayoshi; (JP)
Mandataire : HANABUSA, Tsuneo; c/o Hanabusa Patent Office, Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-099139 22.04.2010 JP
Titre (EN) PLANARIZING FILM-FORMING COMPOSITION FOR HARD DISK AND HARD DISK PRODUCTION METHOD USING SAME
(FR) COMPOSITION FILMOGÈNE DE PLANARISATION ET SON EMPLOI DANS UN PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISQUES DURS
(JA) ハードディスク用平坦化膜形成組成物及びそれを用いたハードディスクの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a planarizing film-forming composition for hard disks that is a non-magnetic material filler (a planarizing film-forming composition) used in methods for forming tracks alternately provided with magnetic material and non-magnetic material components, and is sufficiently filled into fine grooves on surface of a magnetic material, wherein it is required that shrinking does not occur in the filled sections during light curing (during exposure) and during post-exposure firing. Also disclosed is a hard disk production method using the same. The planarizing film-forming composition for hard disks includes at least one polyfunctional (meth)acrylate compound with a molecular weight in the range of 300 to 10,000 that is in a liquid state at room temperature and atmospheric pressure. Said compound is preferably a compound having in the range of 2 to 20 (meth)acrylate groups in the molecule. In addition, the molecular weight of said compound is preferably in the range of 300 to 2,300. The hard disk production method involves a first step for forming depressions and projections upon the surface of the magnetic material, a second step for covering the aforementioned planarization film-forming composition over the surface of the magnetic material upon which said depressions and projections have been formed, and a third step for planarizing by etching the top of said covered magnetic material surface until the surface of the magnetic material is exposed.
(FR)Cette invention concerne une composition filmogène de planarisation pour disque dur qui est constituée par un matériau de charge non magnétique (composition filmogène de planarisation) utilisé pour la formation de pistes comprenant en alternance des composants de matériau magnétique et des composants de matériau non magnétique et qui présente une quantité suffisante de fines gorges remplis de matériau magnétique, étant entendu qu'un retrait ne doit pas se produire dans les parties remplies pendant un léger durcissement (survenant pendant l'exposition) et pendant la cuisson post-exposition Est également décrit un procédé de fabrication recourant à cette composition. La composition filmogène de planarisation pour disque dur comprend au moins un composé de (meth)acrylate polyfonctionnel dont le poids moléculaire se situe entre 300 et 10000, et qui est à l'état liquide à la température ambiante et à la pression atmosphérique. Ledit composé compte de préférence de 2 à 20 groupes (meth)acrylate dans la molécule. De plus, le poids moléculaire dudit composé se situe de préférence entre 300 et 2300. Le procédé de fabrication pour disque dur comprend une première étape de formation de parties en creux et des parties en relief dans la surface du matériau magnétique, une deuxième étape de dépôt de la composition filmogène de planarisation susmentionnée sur la surface du matériau magnétique dans lequel ont été formées des parties en creux et en relief, et une troisième étape de planarisation par attaque de la partie supérieure de la surface du matériau magnétique jusqu'à mise à nu de la surface de ce matériau magnétique.
(JA)【課題】 磁性体部分と非磁性体部分を交互に有するトラックを形成するための方法に用いられる、非磁性体の充填剤(平坦化膜形成組成物)であり、磁性体表面の微細な溝に十分に充填され、且つ光硬化時(露光時)と露光後焼成時に充填部分に収縮を生じないことが求められるハードディスク用平坦化膜形成組成物及びそれを用いたハードディスクの製造方法を提供する。 【解決課題】 室温大気圧下で液体状態にある、分子量300乃至10,000の多官能(メタ)アクリレート化合物を少なくとも1種含むハードディスク用平坦化膜形成組成物。該化合物は好ましくは分子内に2乃至20個の(メタ)アクリレート基を有する化合物である。また、該化合物の分子量は好ましくは300乃至2,300である。 磁性体表面上に凹凸を形成する第1工程と、該凹凸が形成された磁性体表面上を前記平坦化膜形成組成物で被覆する第2工程と、該被覆された磁性体表面上を磁性体表面が露出するまでエッチングして平坦化する第3工程とを含む、ハードディスクの製造方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)