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1. (WO2011132620) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'ORIENTATION ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT D'ORIENTATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/132620    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/059435
Date de publication : 27.10.2011 Date de dépôt international : 15.04.2011
CIB :
G02F 1/1337 (2006.01), G02F 1/13 (2006.01)
Déposants : V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005 (JP) (Tous Sauf US).
KAJIYAMA, Koichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ARAI, Toshinari [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MIZUMURA, Michinobu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KAJIYAMA, Koichi; (JP).
ARAI, Toshinari; (JP).
MIZUMURA, Michinobu; (JP)
Mandataire : SASAJIMA, Fujio; 7th Floor, Akasaka Eight One Building, 13-5, Nagata-cho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000014 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-100053 23.04.2010 JP
Titre (EN) ORIENTATION TREATMENT METHOD AND ORIENTATION TREATMENT DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'ORIENTATION ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT D'ORIENTATION
(JA) 配向処理方法及び配向処理装置
Abrégé : front page image
(EN)A photomask (7) has a first mask pattern group (6A) having multiple thin elongate openings formed at a fixed array pitch and a second mask pattern group (6B) disposed parallel to said first mask pattern group (6A) and having multiple thin elongate openings formed at the same pitch as the array pitch of the aforementioned multiple openings. The photomask (7) is brought proximal to and opposite to a substrate (4) coated with an oriented film, and the substrate (4) is moved in a direction crossing the aforementioned first and second mask pattern groups (6A, 6B). Polarized light (P) at a different angle of incidence θ is irradiated onto the first and second mask pattern groups (6A, 6B) of the aforementioned photomask (7), and stripe-formed first and second orientation regions in two different orientation states are formed alternately on the aforementioned orientation film. By this means, the two kinds of stripe-form oriented regions in different orientation states are formed by a single orientation treatment, and the cycle time of the orientation treatment step is shortened.
(FR)L'invention concerne un masque photo (7) qui comprend un premier groupe de motifs de masque (6A) possédant des ouvertures allongées fines multiples formées à un pas de réseau fixe et un second groupe de motifs de masque (6B) disposé parallèlement audit premier groupe de motifs de masque (6A) et possédant des ouvertures allongées fines multiples formées au même pas que le pas de réseau des ouvertures multiples susmentionnées. Le masque photo (7) est amené à proximité et en face d'un substrat (4) recouvert d'un film orienté, et le substrat (4) est déplacé dans une direction croisant les premier et second groupes de motifs de masque susmentionnés (6A, 6B). Une lumière polarisée (P) ayant un angle d'incidence θ différent est envoyée sur les premier et second groupes de motifs de masque (6A, 6B) du masque photo (7) susmentionné, et des première et seconde régions d'orientation en forme de bandes ayant deux états d'orientation différents sont formées en alternance sur le film d'orientation susmentionné. Ainsi, les deux types de régions orientées en forme de bandes dans différents états d'orientation sont formés par un seul traitement d'orientation, et le temps de cycle de l'étape de traitement d'orientation est réduit.
(JA) 本発明は、細長状の複数の開口を一定の配列ピッチで形成した第1のマスクパターン群6Aと、該第1のマスクパターン群6Aに平行に設けられ、細長状の複数の開口を前記複数の開口の配列ピッチと同ピッチで形成した第2のマスクパターン群6Bとを有するフォトマスク7に近接対向させて、配向膜が塗布された基板4を前記第1及び第2のマスクパターン群6A,6Bに交差する方向に移動し、前記フォトマスク7の第1及び第2のマスクパターン群6A,6Bに入射角度θが異なるP偏光を照射し、前記配向膜に配向状態が異なるストライプ状の第1及び第2の配向領域を交互に形成するものである。これにより、配向状態の異なる二種類のストライプ状の配向領域を1回の配向処理により形成して配向処置工程のタクトを短縮する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)