WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2011131137) APPAREIL DE PULVÉRISATION MAGNÉTRON
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/131137    N° de la demande internationale :    PCT/CN2011/073127
Date de publication : 27.10.2011 Date de dépôt international : 21.04.2011
CIB :
C23C 14/35 (2006.01)
Déposants : BEIJING BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; No. 8 Xihuanzhonglu, BDA Beijing 100176 (CN) (Tous Sauf US).
XIE, Zhenyu [CN/CN]; (CN) (US Seulement)
Inventeurs : XIE, Zhenyu; (CN)
Mandataire : LIU, SHEN & ASSOCIATES; A0601, Huibin Building No. 8 Beichen Dong Street, Chaoyang District Beijing 100101 (CN)
Données relatives à la priorité :
201020171400.6 21.04.2010 CN
Titre (EN) MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE PULVÉRISATION MAGNÉTRON
(ZH) 磁控溅射设备
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a magnetron sputtering apparatus which comprises: a deposition chamber (1); a processing chamber (7) which is in communication with the deposition chamber (1) and a target area (8), which is composed of targets (23) and located at the place where the processing chamber (7) connects the deposition chamber (1); a transport chamber (9) set adjacent to the processing chamber (7), and a first gas-tight gate (10) positioned on the wall of the transport chamber (9) which is opened or closed to control the vacuum degree in the transport chamber (9) and to replace the target (23); a transport device (11), which is set in the processing chamber (7) and/or the transport chamber (9), transports the target (23) between the transport chamber (9) and the processing chamber (7) via a second gas-tight gate (12) on the adjacent walls of the transport chamber (9) and the processing chamber (7) for replacement when the transport chamber (9) is in a set vacuum degree state.
(FR)L'invention porte sur un appareil de pulvérisation magnétron qui comprend : une chambre de dépôt (1) ; une chambre de traitement (7) qui est en communication avec la chambre de dépôt (1) et une zone de cibles (8), qui est composée de cibles (23) et située à l'endroit où la chambre de traitement (7) est raccordée à la chambre de dépôt (1) ; une chambre de transport (9) disposée de façon adjacente à la chambre de traitement (7) et une première porte étanche aux gaz (10) située sur la paroi de la chambre de transport (9) qui est ouverte ou fermée pour régler le degré de vide dans la chambre de transport (9) et pour remplacer la cible (23) ; un dispositif de transport (11), qui est disposé dans la chambre de traitement (7) et/ou la chambre de transport (9), qui transporte la cible (23) entre la chambre de transport (9) et la chambre de traitement (7) par une seconde porte étanche aux gaz (12) sur les parois adjacentes de la chambre de transport (9) et de la chambre de traitement (7) pour son remplacement lorsque la chambre de transport (9) est dans un état de degré de vide réglé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)