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1. (WO2011129404) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN ÉLÉMENT À CRISTAUX LIQUIDES ET ÉLÉMENT À CRISTAUX LIQUIDES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/129404    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/059296
Date de publication : 20.10.2011 Date de dépôt international : 14.04.2011
CIB :
G02B 5/30 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP) (Tous Sauf US).
YAMAMOTO, Yuji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAIDA, Yuriko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOGUCHI, Ryohei [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAKAMOTO, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YAMAMOTO, Yuji; (JP).
KAIDA, Yuriko; (JP).
KOGUCHI, Ryohei; (JP).
SAKAMOTO, Hiroshi; (JP)
Mandataire : SENMYO, Kenji; 4th Floor, SIA Kanda Square, 17, Kanda-konyacho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-094424 15.04.2010 JP
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCTION OF LIQUID CRYSTAL ELEMENT, AND LIQUID CRYSTAL ELEMENT
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN ÉLÉMENT À CRISTAUX LIQUIDES ET ÉLÉMENT À CRISTAUX LIQUIDES
(JA) 液晶素子を製造する方法及び液晶素子
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are: a process for producing a liquid crystal element; and a liquid crystal element. Specifically disclosed are: a process for producing a liquid crystal element that comprises an alignment-treated substrate and a layer comprising a polymeric liquid crystal and having a pattern formed thereon, which comprises the steps of forming a layer comprising a crosslinkable polymeric liquid crystal on an alignment-treated substrate, aligning a mesogen in the crosslinkable polymeric liquid crystal, pressing a mold having an inverted pattern of a pattern formed on the layer comprising the polymeric liquid crystal against the layer comprising the crosslinkable polymeric liquid crystal at a temperature higher than the glass transition temperature of the crosslinkable polymeric liquid crystal and lower than the clearing point of the crosslinkable polymeric liquid crystal, crosslinking the crosslinkable polymeric liquid crystal while pressing the mold against the layer comprising the crosslinkable polymeric liquid crystal to thereby produce a cured product, and removing the mold from the cured product; and a liquid crystal element produced by the process.
(FR)L'invention concerne un procédé de production d'un élément à cristaux liquides; et un élément à cristaux liquides. Plus particulièrement, l'invention concerne un procédé de production d'un élément à cristaux liquides qui comprend un substrat à alignement traité et une couche comprenant un cristal liquide polymère et comportant un motif, lequel procédé comprend les étapes de formation d'une couche comprenant un cristal liquide polymère réticulable sur un substrat à alignement traité, l'alignement d'un mésogène dans le cristal liquide polymère réticulable, la pression d'un moule comprenant un motif inversé d'un motif formé sur la couche comprenant le cristal liquide polymère contre la couche comprenant le cristal liquide polymère réticulable à une température supérieure à la température de transition vitreuse du cristal liquide polymère réticulable et inférieure au point de clarification du cristal liquide polymère réticulable, la réticulation du cristal liquide polymère réticulable au cours de la pression du moule contre la couche comprenant le cristal liquide polymère réticulable afin de produire un produit durci, et le retrait du moule du produit durci; et un élément à cristaux liquides produit par le procédé.
(JA) 液晶素子を製造する方法及び液晶素子を提供する。 配向処理が施された基板及びパターンを有する高分子液晶の層を含む液晶素子を製造する方法において、配向処理が施された基板に架橋性高分子液晶の層を設ける工程、架橋性高分子液晶のメソゲンを配向させる工程、架橋性高分子液晶のガラス転移温度よりも高く、且つ架橋性高分子液晶の透明点の温度よりも低い温度で、高分子液晶の層が有するパターンの反転パターンを有するモールドを架橋性高分子液晶の層に押し当てる工程、モールドを架橋性高分子液晶の層に押し当てた状態で架橋性高分子液晶を架橋させて硬化物とする工程、及び、硬化物からモールドを剥離する工程、を含む液晶素子の製造方法及び該製造方法によって製造される液晶素子。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)