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1. (WO2011129369) APPAREIL D'EXPOSITION, APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/129369    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/059189
Date de publication : 20.10.2011 Date de dépôt international : 13.04.2011
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
KIUCHI Tohru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MIZUTANI Hideo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KIUCHI Tohru; (JP).
MIZUTANI Hideo; (JP)
Mandataire : SHIGA Masatake; 1-9-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1006620 (JP)
Données relatives à la priorité :
61/323,514 13.04.2010 US
Titre (EN) EXPOSURE APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION, APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is an exposure apparatus that transfers a pattern to a substrate, while rotating the pattern in the circumferential direction of a predetermined cylindrical surface, said pattern being provided along the cylindrical surface. The exposure apparatus is provided with: a first projection optical system, which projects an image of a first partial pattern to a first projection region, said first partial pattern being a pattern part disposed in the first region of the cylindrical surface; a second projection optical system, which projects an image of a second partial pattern to a second projection region different from the first projection region, said second partial pattern being a pattern part disposed in a second region different from the first region; and a guide apparatus, which guides the substrate to the first projection region and the second projection region in synchronization with the rotation of the pattern in the circumferential direction.
(FR)L'invention porte sur un appareil d'exposition, qui transfère un motif à un substrat, tout en faisant tourner le motif dans la direction circonférentielle d'une surface cylindrique prédéterminée, ledit motif étant disposé le long de la surface cylindrique. L'appareil d'exposition comporte : un premier système optique à projection, qui projette une image d'un premier motif partiel sur une première région de projection, ledit premier motif partiel étant une partie de motif disposée dans la première région de la surface cylindrique ; un second système optique à projection, qui projette une image d'un second motif partiel sur une seconde région de projection différente de la première région de projection, ledit second motif partiel étant une partie de motif disposée dans une seconde région différente de la première région ; et un appareil de guidage, qui guide le substrat vers la première région de projection et la seconde région de projection en synchronisme avec la rotation du motif dans la direction circonférentielle.
(JA) 本発明の態様に係る露光装置は、所定の円筒面に沿って設けられたパターンを前記円筒面の円周方向に回転させつつ前記パターンを基板に転写する露光装置であって、前記パターンのうち前記円筒面の第1領域に配置される第1部分パターンの像を第1投影領域に投影する第1投影光学系と、前記パターンのうち前記第1領域と異なる第2領域に配置される第2部分パターンの像を、前記第1投影領域と異なる第2投影領域に投影する第2投影光学系と、前記パターンの前記円周方向への回転に同期して、前記第1投影領域及び前記第2投影領域に前記基板を案内する案内装置と、を備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)