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1. (WO2011129206) PHOTOGÉNÉRATEUR D'ACIDE ET COMPOSITION PHOTORÉACTIVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/129206    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/058442
Date de publication : 20.10.2011 Date de dépôt international : 01.04.2011
CIB :
C07D 333/34 (2006.01), C08F 2/50 (2006.01), C08G 59/68 (2006.01), C08G 65/10 (2006.01), C08G 65/18 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD. [JP/JP]; 346-1, Miyanishi, Harima-cho, Kako-gun, Hyogo 6750145 (JP) (Tous Sauf US).
YAMAMOTO, Katsumasa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YAMAGUCHI, Hirofumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MYOKEN, Hidehiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YAMAMOTO, Katsumasa; (JP).
YAMAGUCHI, Hirofumi; (JP).
MYOKEN, Hidehiko; (JP)
Mandataire : TANAKA, Mitsuo; AOYAMA & PARTNERS, IMP Building, 3-7, Shiromi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-091125 12.04.2010 JP
Titre (EN) PHOTOACID GENERATOR AND PHOTOREACTIVE COMPOSITION
(FR) PHOTOGÉNÉRATEUR D'ACIDE ET COMPOSITION PHOTORÉACTIVE
(JA) 光酸発生剤及び光反応性組成物
Abrégé : front page image
(EN)Provided are: a photoacid generator which exhibits remarkably high sensitivity in a near ultraviolet region of about 300 to 400nm and which can ensure a very high reaction rate; and a photoreactive composition which, when irradiated with a near ultraviolet ray, can react in a very short time. More specifically provided are: a phenylthiophenesulfonium salt represented by chemical formula (1); and a photoreactive composition that contains the salt. In chemical formula (1), R1 to R3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, C1-4 halogenated alkyl, C1-10 alkyl, C1-4 alkoxy, C1-8 acyl, or hydroxyl; and X- is an anion.
(FR)La présente invention concerne un photogénérateur d'acide qui présente une sensibilité remarquablement élevée dans la région du proche ultraviolet entre environ 300 et 400 nm et qui peut garantir une vitesse de réaction très élevée; et une composition photoréactive qui, lorsqu'elle est irradiée par un rayonnement ultraviolet proche, peut réagir en très peu de temps. L'invention concerne plus précisément un sel de phénylthiophènesulfonium représenté par la formule chimique (1); et une composition photoréactive qui contient ce sel. Dans la formule chimique (1), les R1 à R3 sont chacun indépendamment un atome d'hydrogène, un atome d'halogène, alkyle C1-4 halogéné, alkyle C1-10, alcoxy C1-4, acyle C1-8, ou hydroxyle; et X- est un anion.
(JA) 本発明は、近紫外線領域である300~400nm付近での感度が非常に高く、反応速度を非常に高めることができる光酸発生剤、及び近紫外線照射による反応時間が非常に短い光反応性組成物を提供する。より詳しくは、下記の化学式(1)に示すフェニルチオフェンスルホニウム塩化合物及び該化合物を含有する光反応性組成物を提供する。(式中、R~Rは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~4のハロゲン化アルキル基、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基、炭素数1~8のアシル基、又は水酸基を示し、Xは、アニオンを示す。)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)