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1. (WO2011129138) MATÉRIAU DE REVÊTEMENT PHOTOCATALYTIQUE, FILM DE REVÊTEMENT PHOTOCATALYTIQUE ET STRUCTURE DE FILM DE REVÊTEMENT STRATIFIÉE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/129138    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/052217
Date de publication : 20.10.2011 Date de dépôt international : 03.02.2011
CIB :
C09D 127/22 (2006.01), B01J 35/02 (2006.01), C09D 5/16 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01)
Déposants : Metaltech co.,LTD. [JP/JP]; 9-3, Shirogane 1-chome, Chuo-ku, Fukuoka-shi, Fukuoka 8100012 (JP) (Tous Sauf US).
Pialex Technologies Corp. [JP/JP]; 4-14, Jyonan-chou, Izumiootsu-shi, Osaka 5950016 (JP) (Tous Sauf US).
Kyushu Institute of Technology [JP/JP]; 1-1, Sensui-chou, Tobata-ku, Kitakyushu-shi, Fukuoka 8040015 (JP) (Tous Sauf US).
SAITOU Nobuo [JP/JP]; (JP).
KITAMURA Tohru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUKAWA Teruki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
Ohno Teruhisa [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SAITOU Nobuo; (JP).
KITAMURA Tohru; (JP).
MATSUKAWA Teruki; (JP).
Ohno Teruhisa; (JP)
Mandataire : MATSUO Kenichiro; 7th Floor, Shinkumi Akasaka Bldg., 10-17, Akasaka 1-chome, Chuo-ku, Fukuoka-shi, Fukuoka 8100042 (JP)
Données relatives à la priorité :
PCT/JP2010/056547 12.04.2010 JP
Titre (EN) PHOTOCATALYTIC COATING MATERIAL, PHOTOCATALYTIC COATING FILM AND LAMINATED COATING FILM STRUCTURE
(FR) MATÉRIAU DE REVÊTEMENT PHOTOCATALYTIQUE, FILM DE REVÊTEMENT PHOTOCATALYTIQUE ET STRUCTURE DE FILM DE REVÊTEMENT STRATIFIÉE
(JA) 光触媒塗料及び光触媒塗膜並びに積層塗膜構造
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a photocatalytic coating material which can form a coated surface with strong hydrophobic tendencies, and wherein the coating material is resistant to affect even when the photocatalyst is excited. The photocatalytic coating material is prepared by dispersing or dissolving in a solvent at least: a photocatalyst; polytetrafluoroethylene graft polymerised with sulfonic acid; and a compound containing a metal ion with an ion radius equal to or greater than the ion radius of a calcium ion, and/or a complex ion with an ion radius equal to or greater than that of a calcium ion. Further, the compound containing a metal ion is either a hydroxide or has had an electrically neutral surfactant added thereto.
(FR)La présente invention concerne un matériau de revêtement photocatalytique qui peut former une surface revêtue ayant de fortes tendances hydrophobes, et où le matériau de revêtement est résistant aux atteintes même lorsque le photocatalyseur est excité. Le matériau de revêtement photocatalytique est préparé par dispersion ou dissolution dans un solvant d'au moins : un photocatalyseur ; un polytétrafluoroéthylène greffé polymérisé avec un acide sulfonique ; et un composé contenant un ion de métal avec un rayon ionique égal à ou supérieur au rayon ionique d'un ion calcium, et/ou un ion complexe ayant un rayon ionique égal ou supérieur à celui d'un ion calcium. De plus, le composé contenant un ion de métal est un hydroxyde ou bien présente un tensioactif électriquement neutre qui a été ajouté.
(JA) 光触媒が励起した場合であっても塗料自身が侵されにくく、かつ、疎水傾向の強い塗装面を形成することのできる光触媒塗料を提供する。光触媒塗料を、少なくとも光触媒と、スルホン酸をグラフト重合させた四フッ化エチレン系樹脂と、カルシウムのイオン半径以上のイオン半径を有する金属イオンを含む化合物及び/又はカルシウムのイオン半径以上のイオン半径を有する錯イオンと、を溶媒に分散又は溶解させて調製することとした。また、前記金属イオンを含む化合物が、水酸化物であることや、電気的に中性な界面活性剤を添加したことにも特徴を有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)