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1. (WO2011129043) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/129043    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/000764
Date de publication : 20.10.2011 Date de dépôt international : 10.02.2011
CIB :
C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/04 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (Tous Sauf US).
SONODA, Tohru; (US Seulement).
HAYASHI, Nobuhiro; (US Seulement).
KAWATO, Shinichi; (US Seulement).
INOUE, Satoshi; (US Seulement)
Inventeurs : SONODA, Tohru; .
HAYASHI, Nobuhiro; .
KAWATO, Shinichi; .
INOUE, Satoshi;
Mandataire : MAEDA, Hiroshi; Osaka-Marubeni Bldg. 5-7, Hommachi 2-chome, Chuo-ku Osaka-shi, Osaka 5410053 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-091481 12.04.2010 JP
Titre (EN) DEPOSITION APPARATUS AND DEPOSITION METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT
(JA) 蒸着装置及び蒸着方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a deposition apparatus (50) which forms, in a predetermined pattern, a thin film (3) on a substrate (10) for an organic EL display. A first correction plate (81) and a second correction plate (82) are disposed between a shadow mask (60) and a deposition source (53) that radiates deposition particles. The correction plates (81, 82) respectively have a plurality of blade plates (83) and frames (84) that support the blade plates. When viewed from the direction that orthogonally intersects the shadow mask (60), the blade plates (83) are disposed such that the blade plates extend parallel to each other with openings (86) between the adjacent blade plates (83), in a state wherein the blade plates are tilted with respect to the shadow mask (60).
(FR)L'invention concerne un appareil de dépôt (50) qui permet de former un film mince (3) sur un substrat (10) en respectant un motif prédéterminé pour un écran électroluminescent organique. Une première plaque de correction (81) et une deuxième plaque de correction (82) sont disposées entre un masque perforé (60) et une source de dépôt (53) qui émet des particules de dépôt. Les plaques de correction (81, 82) comportent respectivement une pluralité de pales (83) et de cadres (84) qui supportent les pales. Vues perpendiculairement au masque perforé (60), les pales (83) sont disposées de manière à s'étendre parallèlement les unes aux autres avec des ouvertures (86) entre les pales adjacentes (83), dans un état dans lequel les pales sont inclinées par rapport au masque perforé (60).
(JA)有機ELディスプレイ用の基板10に薄膜3を所定のパターンで形成する蒸着装置50である。シャドウマスク60と蒸着粒子を放射する蒸着源53との間に第1補正板81及び第2補正板82が配置されている。各補正板81,82のそれぞれは、複数の羽根板83と、これらを支持するフレーム84とを有している。羽根板83のそれぞれが、シャドウマスク60に対して傾斜した状態で、シャドウマスク60と直交する方向から見て、隣接する羽根板83との間に開口86を隔てて互いに平行に延びるように配置されている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)